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coc共晶机技术领域.本实用新型涉及coc芯片加工技术领域，具体为coc共晶机。背景技术.目前随着光通讯行业的迅猛发展，激光器芯片厂家对芯片的集成度做的越来越高，一般在coc芯片的生产加工中，需要用到coc共晶机，目前市场上传统的coc芯片

.本实用新型涉及一种送风和加湿机构，尤其是一种烤炉送风和加湿机构。背景技术.烤炉又称烘箱、烘炉、烤箱、焗炉，是指用热空气烹调食品的一种装置，一般为封闭或半封闭结构，其中，其内部的送风和加湿机构的工作效率、工作性能和简单化程度也已经成为衡量烤

.本实用新型涉及一种光学元器件，尤其是一种高速调制器。背景技术.随着光通信系统的不断发展，光通信传输速率的要求不断提高，对调制器的性能要求也越来越高。传统的直调激光器或电吸收调制激光器的性能能够满足中短距离的数据传输，但在超远距离超高传输速

.本实用新型涉及注塑成型技术领域，具体涉及到一种注塑产品。背景技术.现有技术中的双射注塑产品，包括一射件和二射件，一射件和二射件均通过模内注塑成型，具体的：先于模内注塑成型一射件，再在成型后的一射件上注塑成型二射件。但二射件在注塑成型过程中

.本申请涉及智能家居的技术领域，尤其是涉及一种智能床垫控制电路及其床垫。背景技术.目前城市化进程加快带来的睡眠问题日益凸显，关于全球健康睡眠的问题日益被人们所关注，为了改善人们的睡眠问题，床垫也在追求舒适性的同时渐渐向智能化迈进，智能床垫的

.本实用新型涉及机械加工技术领域，具体为一种阶梯式圆鼻刀。背景技术.圆鼻刀指过圆弧部分的长度要大于/圆的一种刀具，在模具加工领域，需要采用圆鼻铣刀等工具对不同的工件铣削出端面、斜面、沟槽和台阶面等，这就对该类刀具要求精度要高。.而对于通用型

.本实用新型涉及反应釜技术领域，尤其涉及一种阻垢分散剂生产用反应釜。背景技术.阻垢分散剂是羧基、羟基、硫磺酸以及磷酸基的共聚物，一般在加工过程中，需要在反应釜中进行混合反应，一般是将一些固体粉末状的原料加入反应釜内部与液体原料经过叶轮的搅拌

.本实用新型涉及泵头加工技术领域，具体为一种泵头组件注塑生产用熔胶注射装置。背景技术.泵是输送流体或使流体增压的机械。它将原动机的机械能或其他外部能量传送给液体，使液体能量增加。泵主要用来输送水、油、酸碱液、乳化液、悬乳液和液态金属等液体，

.本实用新型涉及磷酸二氢二钠生产技术领域，具体是一种多级磷酸二氢二钠生产高效烘干炉。背景技术.焦磷酸二氢二钠的理化性质是白色结晶性粉末，来源与制法是磷酸二氢钠加热到℃脱水制得；或在磷酸中加入碳酸钠，再加热到℃经过脱水制得。脱水制成粉末时，需

.本实用新型涉及机械设备生产技术领域，更具体地说，本实用新型涉及一种机械设备生产用固定装置。背景技术.在机械领域中，一些设备在加工过程中，常常需要先对其固定，而目前的夹持设备常常存在一些问题，一些设备体型较大，重量较重，不好搬运，需要借助一