1.本实用新型涉及反应釜技术领域,尤其涉及一种阻垢分散剂生产用反应釜。
背景技术:
2.阻垢分散剂是羧基、羟基、硫磺酸以及磷酸基的共聚物,一般在加工过程中,需要在反应釜中进行混合反应,一般是将一些固体粉末状的原料加入反应釜内部与液体原料经过叶轮的搅拌充分反应混合。
3.现有的阻垢分散剂生产用反应釜不能够对加入的固体原料进行碾磨,一些固体原料在反应釜中会出现结块现象,增加搅拌的时间,影响阻垢分散剂的生产效率,所以我们提出了一种阻垢分散剂生产用反应釜,用以解决上述提出的问题。
技术实现要素:
4.本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在阻垢分散剂生产用反应釜不能够对加入的固体原料进行碾磨,一些固体原料在反应釜中会出现结块现象,增加搅拌的时间,影响阻垢分散剂的生产效率的缺点,而提出的一种阻垢分散剂生产用反应釜。
5.为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
6.一种阻垢分散剂生产用反应釜,包括顶部设置有开口的反应釜本体,所述反应釜本体的顶部设有顶盖,且顶盖完全覆盖反应釜本体的开口,所述顶盖的顶部固定安装有安装块,且安装块上设有腔室,所述安装块的顶部固定安装有混合电机,所述混合电机输出轴的底部延伸至腔室的内部并固定安装有主混合轴,所述腔室的顶部内壁上固定安装有固体原料进管,所述固体原料进管的顶部和安装块的顶部位于同一水平面,且固体原料进管的底部和反应釜本体的内部密封相连通,所述固体原料进管的内部转动安装有碾磨环盘,且碾磨环盘和主混合轴传动连接。
7.优选的,为了实现混合的同时对固体原料进行碾磨,所述主混合轴的外侧固定套设有联动锥齿轮,所述腔室的顶部内壁上转动安装有碾磨轴,且碾磨轴的外侧固定套设有连接锥齿轮,所述连接锥齿轮和联动锥齿轮相啮合,所述碾磨轴的左端延伸至固体原料进管的内部,且碾磨轴的外侧和碾磨环盘的内圈固定安装。
8.优选的,为了单独添加液体原料和固体原料,所述碾磨轴的左端和固体原料进管的左侧内壁转动连接,所述顶盖的顶部固定安装有液体原料进管,所述液体原料进管的底部和反应釜本体的内部密封相连通,所述反应釜本体的底部内壁上密封连通有出料管,且出料管的底部延伸至反应釜本体的下方。
9.优选的,为了提升混合效率,所述主混合轴的底部贯穿腔室的底部内壁和顶盖的顶部并延伸至反应釜本体的内部,所述主混合轴的左侧和右侧均固定安装有多个主混合杆,所述主混合轴的左侧和右侧均固定安装有安装板,两个安装板的底部均转动安装有副混合轴,且副混合轴的左侧和右侧均固定安装有多个副混合杆,两个副混合轴上的多个副混合杆均与主混合杆交错式设置。
10.优选的,为了便于实现副混合轴的间隙性自转,所述顶盖的底部固定安装有弧形齿条,且弧形齿条的数量设置有两个,两个副混合轴的顶部分别延伸至两个安装板的上方,且两个副混合轴的外侧均固定套设有自转齿轮,所述自转齿轮和与其相对应的弧形齿条可脱离相啮合。
11.优选的,为了便于安装两个弧形齿条,两个弧形齿条相互靠近的一侧均固定安装有竖板,两个竖板的顶部均和顶盖的底部固定安装,且两个竖板分别位于主混合轴的左侧和右侧。
12.本实用新型的有益效果:反应釜本体和混合电机的规格可以根据实际需求进行选择,需要生产阻垢分散剂时,首先启动混合电机,将固体原料和液体原料分别经由设置的固体原料进管和液体原料进管添加至反应釜本体的内部,当固体原料在固体原料进管内向下运动时,混合电机的输出轴会带动主混合轴和联动锥齿轮进行转动,经由设置的联动锥齿轮和连接锥齿轮的啮合关系,可以实现主混合轴和碾磨轴的联动,碾磨轴上的碾磨环盘会对固体原料进行碾磨,保证进入反应釜本体内部的固体原料都是呈粉末状,主混合轴还可以带动两个安装板和多个主混合杆进行转动,两个安装板会带动两个副混合轴进行转动,当两个副混合轴进行转动时,经由设置的自转齿轮和弧形齿条的可脱离啮合关系,可以实现副混合轴的间歇性自转,提高了阻垢分散剂的混合效率,较之常规的阻垢分散剂生产用反应釜,便于对固体原料进行进一步的碾碎,固体原料自反应釜本体内部不会呈现结块的状况,缩短了固体原料和液体原料的混合时间,大大提高了阻垢分散剂的生产效率;
13.为了解决副混合轴不能够间歇性自转,影响混合效率的问题,通过设置的自转齿轮和弧形齿条的啮合关系,副混合轴在公转的同时能够间隙性自转,大大提高了混合效率;
14.为了解决解决碾磨轴转动时容易发生抖动的问题,在腔室的顶部内壁上设置了两个轴承,两个轴承的内圈均和碾磨轴的外侧进行焊接,消除了碾磨轴转动时的抖动状况。
附图说明
15.图1为本实用新型提出的一种阻垢分散剂生产用反应釜的部分结构立体图;
16.图2为本实用新型提出的一种阻垢分散剂生产用反应釜的主视结构示意图;
17.图3为本实用新型提出的一种阻垢分散剂生产用反应釜的碾磨环盘结构立体图;
18.图4为本实用新型提出的一种阻垢分散剂生产用反应釜的图2中a部分结构放大示意图。
19.图中:1反应釜本体、2顶盖、3安装块、4液体原料进管、5混合电机、6联动锥齿轮、7碾磨轴、8连接锥齿轮、9固体原料进管、10碾磨环盘、11主混合杆、12安装板、13副混合轴、14副混合杆、15自转齿轮、16弧形齿条、17竖板、18腔室、19主混合轴。
具体实施方式
20.下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
21.实施例一
22.参照图1-4,一种阻垢分散剂生产用反应釜,包括顶部设置有开口的反应釜本体1,
反应釜本体1的底部呈弧形设置,不会出现余存的状况,反应釜本体1的顶部设有顶盖2,且顶盖2完全覆盖反应釜本体1的开口,顶盖2的顶部固定安装有安装块3,安装块3呈柱形设置,且安装块3上设有腔室18,安装块3的顶部固定安装有混合电机5,混合电机5输出轴的底部延伸至腔室18的内部并固定安装有主混合轴19,腔室18的顶部内壁上固定安装有固体原料进管9,固体原料进管9呈椭圆形设置,固体原料进管9的顶部和安装块3的顶部位于同一水平面,且固体原料进管9的底部和反应釜本体1的内部密封相连通,固体原料进管9的内部转动安装有碾磨环盘10,且碾磨环盘10和主混合轴19传动连接,为了实现混合的同时对固体原料进行碾磨,主混合轴19的外侧固定套设有联动锥齿轮6,腔室18的顶部内壁上转动安装有碾磨轴7,利用碾磨轴7和固体原料进管9的前侧内部和后侧内壁对固体原料进行碾磨,且碾磨轴7的外侧固定套设有连接锥齿轮8,连接锥齿轮8和联动锥齿轮6相啮合,为了提升联动性,减少动力源部件的数量,降低生产成本,碾磨轴7的左端延伸至固体原料进管9的内部,且碾磨轴7的外侧和碾磨环盘10的内圈固定安装。
23.实施例二
24.在实施例一的基础上做出如下进一步的改进:
25.本实用新型中,为了单独添加液体原料和固体原料,碾磨轴7的左端和固体原料进管9的左侧内壁转动连接,顶盖2的顶部固定安装有液体原料进管4,液体原料进管4呈l形设置,液体原料进管4的底部和反应釜本体1的内部密封相连通,反应釜本体1的底部内壁上密封连通有出料管,且出料管的底部延伸至反应釜本体1的下方,出料管位于反应釜本体1的底部内壁中心处。
26.本实用新型中,为了提升混合效率,主混合轴19的底部贯穿腔室18的底部内壁和顶盖2的顶部并延伸至反应釜本体1的内部,主混合轴19的左侧和右侧均固定安装有多个主混合杆11,多个主混合杆11呈纵向排列,主混合轴19的左侧和右侧均固定安装有安装板12,两个安装板12的底部均转动安装有副混合轴13,两个副混合轴13呈对称设置,且副混合轴13的左侧和右侧均固定安装有多个副混合杆14,多个副混合杆14也是呈纵向排列,两个副混合轴13上的多个副混合杆14均与主混合杆11交错式设置,为了便于实现副混合轴13的间隙性自转,顶盖2的底部固定安装有弧形齿条16,且弧形齿条16的数量设置有两个,两个弧形齿条16是对称设置的,两个副混合轴13的顶部分别延伸至两个安装板12的上方,且两个副混合轴13的外侧均固定套设有自转齿轮15,自转齿轮15和与其相对应的弧形齿条16可脱离相啮合,为了便于安装两个弧形齿条16,两个弧形齿条16相互靠近的一侧均固定安装有竖板17,两个竖板17的顶部均和顶盖2的底部固定安装,且两个竖板17分别位于主混合轴19的左侧和右侧。
27.本实用新型中,需要生产阻垢分散剂时,首先启动混合电机5,将固体原料和液体原料分别经由设置的固体原料进管9和液体原料进管4添加至反应釜本体1的内部,当固体原料在固体原料进管9内向下运动时,混合电机5的输出轴会带动主混合轴19和联动锥齿轮6进行转动,经由设置的联动锥齿轮6和连接锥齿轮8的啮合关系,可以实现主混合轴19和碾磨轴7的联动,碾磨轴7上的碾磨环盘10会对固体原料进行碾磨,保证进入反应釜本体1内部的固体原料都是呈粉末状,主混合轴19还可以带动两个安装板12和多个主混合杆11进行转动,两个安装板12会带动两个副混合轴13进行转动,当两个副混合轴13进行转动时,经由设置的自转齿轮15和弧形齿条16的可脱离啮合关系,可以实现副混合轴13的间歇性自转,提
高了阻垢分散剂的混合效率,较之常规的阻垢分散剂生产用反应釜,便于对固体原料进行进一步的碾碎,固体原料自反应釜本体1内部不会呈现结块的状况,缩短了固体原料和液体原料的混合时间,大大提高了阻垢分散剂的生产效率。
28.本实用的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限制,术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接,可以是机械连接,也可以是电连接,可以是直接连接,也可以是通过中间媒介相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用中的具体含义。
29.以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。