用于版图处理的方法、设备和存储介质与流程

本公开的示例实施例总体涉及集成电路领域，并且更具体地，涉及一种用于版图处理的方法、设备和存储介质。

背景技术：

1、电路版图，简而言之即版图，是经由设计与模拟优化后的电路所转化的一系列图形。它详尽地包含了集成电路的尺寸、各层拓扑定义等关键物理信息数据，成为集成电路制造商制造掩模的重要依据。掩模上的版图图案，精确决定了芯片上器件或连接物理层的尺寸，其重要性不言而喻。

2、随着集成电路制造工艺的不断进步，技术节点逐渐减小，集成电路中的目标图案之间的距离也随之减小，而掩模上与目标图案相对应的版图图案的密度则日益增加。然而，光波在掩模的版图图案处会发生衍射现象，这导致实际形成的图案与版图图案相比会产生一定的失真。

3、为了解决这个问题，光学邻近效应修正(optical proximity corr ection，opc)技术应运而生。它通过精细地调整掩模的版图图案，来改变光刻过程中晶圆表面的光强分布，从而有效地补偿由光学邻近效应导致的图形转移失真。opc技术的应用，使得集成电路的制造更加精确和可靠。

技术实现思路

1、在本公开的第一方面，提供了一种用于版图处理的方法。该方法包括：确定版图中待修正的第一图形段在第一坐标系下的第一位置表示，其中第一位置表示指示第一图形段在版图中的位置；将第一位置表示转换为第一图形段在第二坐标系下的第二位置表示，第二坐标系不同于第一坐标系；基于修正目标，确定针对第二位置表示的目标修正信息；以及基于目标修正信息，对第一图形段在版图中的位置进行修正。

2、在本公开的第二方面，提供了一种电子设备。该设备包括至少一个处理单元；以及至少一个存储器，至少一个存储器被耦合到至少一个处理单元并且存储用于由至少一个处理单元执行的指令。指令在由至少一个处理单元执行时使设备执行第一方面的方法。

3、在本公开的第三方面，提供了一种计算机可读存储介质。该计算机可读存储介质上存储有计算机程序，计算机程序可由处理器执行以实现第一方面的方法。

4、在本公开的第四方面，提供了一种计算机程序产品。该计算机程序产品包括计算机可执行指令，这些指令在被处理器执行时，实现根据本公开的第一方面的方法。

5、应当理解，本内容部分中所描述的内容并非旨在限定本公开的实施例的关键特征或重要特征，也不用于限制本公开的范围。本公开的其它特征将通过以下的描述而变得容易理解。

技术特征：

1.一种用于版图处理的方法，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一坐标系包括直角坐标系，并且其中所述第二坐标系包括极坐标系。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述第一位置表示包括所述第一图形段的一组端点在所述直角坐标系下的坐标，所述第二位置表示包括所述第一图形段的中点在所述极坐标系下的坐标。

4.根据权利要求2所述的方法，其中所述极坐标系的原点基于所述第一图形段的中点的初始位置所确定，并且所述第二位置表示中的极角基于所述第一图形段的法线与所述极坐标系的极轴所确定。

5.根据权利要求2所述的方法，其中将所述第一位置表示转换为第二位置表示包括：

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述一个或多个预定方向包括以下至少一项：

7.根据权利要求5所述的方法，其中所述第一图形段的一组端点包括位于所述第一图形段第一端点的第一端点和位于所述第一图形段第二端点的第二端点，并且其中基于所述第一图形段的一组端点在所述直角坐标系下的坐标，确定所述第一图形段的延伸方向包括：

8.根据权利要求1-7中任一项所述的方法，其中基于修正目标，确定针对所述第二位置表示的目标修正信息包括：

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述第二预定方向包括与所述第一预定方向相同或相反的方向。

10.根据权利要求3所述的方法，其中基于所述目标修正信息，对所述第一图形段在所述版图中的位置进行修正，包括：

11.根据权利要求10所述的方法，其中基于所述第一位置表示中的横坐标、纵坐标、所述第一修正值和所述第二修正值，对所述第一图形段在所述版图中的位置进行修正，包括：

12.根据权利要求1所述的方法，还包括：

13.根据权利要求12所述的方法，其中将经过位置修正的所述第一图形段与第二图形段进行拼接，包括：

14.根据权利要求12所述的方法，其中将经过位置修正的所述第一图形段与第二图形段进行拼接，包括：

15.一种电子设备，包括：

16.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序可由处理器执行以实现根据权利要求1至14任一项所述的方法。

17.一种计算机程序产品，包括计算机可执行指令，其中所述计算机可执行指令在被处理器执行时实现根据权利要求1至14中任一项所述的方法。

技术总结
本公开的实施例涉及一种用于版图处理的方法、设备和存储介质。在此提出的方法包括：确定版图中待修正的第一图形段在第一坐标系下的第一位置表示，其中第一位置表示指示第一图形段在版图中的位置；将第一位置表示转换为第一图形段在第二坐标系下的第二位置表示，第二坐标系不同于第一坐标系；基于修正目标，确定针对第二位置表示的目标修正信息；以及基于目标修正信息，对第一图形段在版图中的位置进行修正。以此方式，本公开的实施例能够对全方向版图中的各种图形段进行精确修正。

技术研发人员：请求不公布姓名,请求不公布姓名,请求不公布姓名
受保护的技术使用者：全芯智造技术有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/12/5