一种光刻胶连续生产设备的制作方法

1.本发明涉及光刻胶技术领域，尤其涉及一种光刻胶连续生产设备。


背景技术：

2.光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用，印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域，1954年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的，以后才用于电子工业，光刻胶是一种有机化合物，它被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化，硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面，而后被干燥成胶膜。
3.光刻胶由感光树脂、增感剂(见光谱增感染料)和溶剂三种主要成分组成，在生产过程中需要将其搅拌混合反应，再进入生产装置内进行生产，现有技术中的光刻胶生产设备在光刻胶生产完成后，设备将会停止运行并进行卸料，这样的工作效率相对较低，不利于企业生产，为了解决该问题，所以本发明公开可一种光刻胶连续生产设备。


技术实现要素：

4.发明目的：为了解决背景技术中存在的不足，所以本发明公开了一种光刻胶连续生产设备。
5.技术方案：一种光刻胶连续生产设备，包括层架、混合搅拌反应箱、过滤器、生产搅拌机构、顶部为敞开设置的生产箱，所述层架从上至下依次设有第一层板、第二层板和第三层板，所述混合反应罐设置在第一层板上，所述生产箱设置在第二层板上，所述生产箱的内部被一竖向隔板隔成有两个搅拌室，且两个搅拌室外侧所对应的生产箱表面均设置有投料口，所述混合搅拌反应箱的出料口通过分歧管路与两个投料口分别连接，所述生产搅拌机构包括横向伺服直线模组、滑动板、升降驱动气缸、升降板、搅拌驱动电机一和搅拌桨一，所述横向伺服直线模组设置在第一层板底部，所述滑动板连接设置在横向伺服直线模组下方，所述升降驱动气缸设置在滑动板的底部，所述升降板与升降驱动气缸的驱动轴连接，所述搅拌驱动电机一设置在升降板的底部，且所述搅拌驱动电机一的下表面设置有密封板，且所述搅拌驱动电机一的输出轴穿过密封板与搅拌桨一连接，所述过滤器设置在第三层板上，且所述两个搅拌室的底部均通过卸料管路与过滤器连接。
6.作为本发明的一种优选方式，所述混合搅拌反应箱包括箱体、搅拌驱动电机二和搅拌桨二，所述搅拌驱动电机二设置在箱体顶部，且所述搅拌驱动电机二的输出轴伸进箱体内与搅拌桨二连接。
7.作为本发明的一种优选方式，所述密封板的中部安装有轴承座，且所述搅拌驱动电机一的输出轴穿过轴承座与搅拌桨一连接。
8.作为本发明的一种优选方式，所述分歧管路包括分歧主管路和两个与主管路连通的支管路，所述主管路与混合搅拌反应箱的出料口连接，且每个支管路上均安装有电磁控
制阀一。
9.作为本发明的一种优选方式，所述密封板的大小与单个搅拌室的顶部大小相匹配。
10.作为本发明的一种优选方式，所述过滤器的底部穿过第三层板安装有卸料漏斗。
11.作为本发明的一种优选方式，所述卸料管路上设置有电磁控制阀二。
12.本发明实现以下有益效果：
13.本发明通过混合搅拌反应箱与两个搅拌室配合使用，能保证有一搅拌室在卸料过程中，另一搅拌室则继续进行搅拌生产，进而实现连续生产，相较于现有中的光刻胶生产设备，本发明工作效率较高，具有较高的使用价值。
附图说明
14.此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。
15.图1为本发明公开的整体结构示意图。
具体实施方式
16.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
17.实施例
18.参考图1，一种光刻胶连续生产设备，包括层架10、混合搅拌反应箱20、过滤器50、生产搅拌机构30、顶部为敞开设置的生产箱40，层架从上至下依次设有第一层板11、第二层板12和第三层板13，混合反应罐设置在第一层板上，生产箱设置在第二层板上，生产箱的内部被一竖向隔板42隔成有两个搅拌室41，且两个搅拌室外侧所对应的生产箱表面均设置有投料口43，混合搅拌反应箱的出料口通过分歧管路与两个投料口分别连接，生产搅拌机构包括横向伺服直线模组31、滑动板32、升降驱动气缸33、升降板34、搅拌驱动电机一35和搅拌桨一37，横向伺服直线模组设置在第一层板底部，滑动板连接设置在横向伺服直线模组下方，升降驱动气缸设置在滑动板的底部，升降板与升降驱动气缸的驱动轴连接，搅拌驱动电机一设置在升降板的底部，且搅拌驱动电机一的下表面设置有密封板36，且搅拌驱动电机一的输出轴穿过密封板与搅拌桨一连接，过滤器设置在第三层板上，且两个搅拌室的底部均通过卸料管路90与过滤器连接。
19.在本实施例中，混合搅拌反应箱包括箱体21、搅拌驱动电机二22和搅拌桨二23，搅拌驱动电机二设置在箱体顶部，且搅拌驱动电机二的输出轴伸进箱体内与搅拌桨二连接，在搅拌驱动电机二的驱动下，搅拌桨二将对投入箱体内的各类物料进行搅拌混合反应。
20.在本实施例中，密封板的中部安装有轴承座38，且搅拌驱动电机一的输出轴穿过轴承座与搅拌桨一连接，这样能保证搅拌驱动电机一稳定的驱动搅拌桨一进行稳定的转动，从而对搅拌室内的物料进行生产搅拌。
21.在本实施例中，分歧管路包括分歧主管路60和两个与主管路连通的支管路80，主管路与混合搅拌反应箱的出料口连接，且每个支管路上均安装有电磁控制阀一70，在一电磁控制阀一打开时，混合搅拌反应箱内的搅拌反应好的物料将对应进入一搅拌反应室内进
行搅拌生产。
22.在本实施例中，密封板的大小与单个搅拌室的顶部大小相匹配，以便对搅拌室进行很好的密封，可避免搅拌驱动电机一驱动搅拌桨一进行转动时有物料溅出。
23.在本实施例中，过滤器的底部穿过第三层板安装有卸料漏斗110，可方便操作人员进行接料。
24.在本实施例中，卸料管路上设置有电磁控制阀二100，当一电磁控制阀二打开后搅拌室内所搅拌完成的物料将会进入过滤器内进行过滤。
25.在具体使用过程中，先向混合搅拌反应箱内定量注入各类物料，并由搅拌驱动电机二驱动搅拌桨二转动以对混合搅拌反应箱内的各类物料进行搅拌使其快速混合反应，搅拌一段时间后，一个电磁控制阀一打开，混合搅拌反应箱内的物料将进入一个搅拌室中，并在物料全部进入搅拌室后，上述电磁控制阀一关闭，再继续向混合搅拌反应箱内定量注入各类物料，与此同时，横向伺服直线模组驱动滑动板滑动至上述搅拌室上方，到位后，升降驱动气缸驱动升降板下降，直至密封板对该搅拌室进行密封，密封结束后，搅拌驱动电机一驱动搅拌桨一对搅拌室内的物料进行搅拌生产，搅拌生产结束后，相应的电磁控制阀二打开，搅拌室内所生产好的物料将经过卸料管路进入过滤器内进行过滤，在该搅拌室内的物料进行卸料过滤时，混合搅拌反应箱搅拌好的物料再投入另一搅拌室内进行搅拌生产，则能连续实现生产。
26.上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的是让熟悉该技术领域的技术人员能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此来限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所作出的等同变换或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

技术特征：
1.一种光刻胶连续生产设备，其特征在于，包括层架、混合搅拌反应箱、过滤器、生产搅拌机构、顶部为敞开设置的生产箱，所述层架从上至下依次设有第一层板、第二层板和第三层板，所述混合反应罐设置在第一层板上，所述生产箱设置在第二层板上，所述生产箱的内部被一竖向隔板隔成有两个搅拌室，且两个搅拌室外侧所对应的生产箱表面均设置有投料口，所述混合搅拌反应箱的出料口通过分歧管路与两个投料口分别连接，所述生产搅拌机构包括横向伺服直线模组、滑动板、升降驱动气缸、升降板、搅拌驱动电机一和搅拌桨一，所述横向伺服直线模组设置在第一层板底部，所述滑动板连接设置在横向伺服直线模组下方，所述升降驱动气缸设置在滑动板的底部，所述升降板与升降驱动气缸的驱动轴连接，所述搅拌驱动电机一设置在升降板的底部，且所述搅拌驱动电机一的下表面设置有密封板，且所述搅拌驱动电机一的输出轴穿过密封板与搅拌桨一连接，所述过滤器设置在第三层板上，且所述两个搅拌室的底部均通过卸料管路与过滤器连接。2.根据权利要求1所述的一种光刻胶连续生产设备，其特征在于，所述混合搅拌反应箱包括箱体、搅拌驱动电机二和搅拌桨二，所述搅拌驱动电机二设置在箱体顶部，且所述搅拌驱动电机二的输出轴伸进箱体内与搅拌桨二连接。3.根据权利要求1所述的一种光刻胶连续生产设备，其特征在于，所述密封板的中部安装有轴承座，且所述搅拌驱动电机一的输出轴穿过轴承座与搅拌桨一连接。4.根据权利要求1所述的一种光刻胶连续生产设备，其特征在于，所述分歧管路包括分歧主管路和两个与主管路连通的支管路，所述主管路与混合搅拌反应箱的出料口连接，且每个支管路上均安装有电磁控制阀一。5.根据权利要求1所述的一种光刻胶连续生产设备，其特征在于，所述密封板的大小与单个搅拌室的顶部大小相匹配。6.根据权利要求1所述的一种光刻胶连续生产设备，其特征在于，所述过滤器的底部穿过第三层板安装有卸料漏斗。7.根据权利要求1所述的一种光刻胶连续生产设备，其特征在于，所述卸料管路上设置有电磁控制阀二。

技术总结
本发明公开了一种光刻胶连续生产设备，包括层架、混合搅拌反应箱、过滤器、生产搅拌机构、顶部为敞开设置的生产箱，层架从上至下依次设有第一层板、第二层板和第三层板，混合反应罐设置在第一层板上，生产箱设置在第二层板上，生产箱的内部被一竖向隔板隔成有两个搅拌室，生产搅拌机构包括横向伺服直线模组、滑动板、升降驱动气缸、升降板、搅拌驱动电机一和搅拌桨一，过滤器设置在第三层板上，本发明通过混合搅拌反应箱与两个搅拌室配合使用，能保证有一搅拌室在卸料过程中，另一搅拌室则继续进行搅拌生产，进而实现连续生产，相较于现有中的光刻胶生产设备，本发明工作效率较高，具有较高的使用价值。较高的使用价值。较高的使用价值。


技术研发人员：郑军明 外谷佳靖
受保护的技术使用者：田菱智能科技（昆山）有限公司
技术研发日：2021.11.26
技术公布日：2022/3/8