蒸镀装置及蒸镀方法与流程

1.本技术涉及显示领域，具体涉及一种蒸镀装置及蒸镀方法。


背景技术：

2.有机发光显示面板(oled)已经广泛用于生活之中，在有机发光显示面的生产过程中需要用到蒸镀工艺，例如红色发光器件、绿色发光器件、蓝色发光器件中的各种发光材料需要通过蒸镀工艺形成，在正式蒸镀生产形成显示面板的发光器件前，需要对蒸镀膜层进行校准，包括对蒸镀形成的膜层的厚度、均一性等进行校准，以便在显示面板的发光器件中形成预设厚度和、均一厚度的发光材料膜层。现有技术中的蒸镀装置包括基板设置台、基板设置台下方的多个源挡板、源挡板下方的多个坩埚，每一坩埚和基板设置台之间都有一个源挡板，对蒸镀膜层进行校准时，需要对每个坩埚分别进行蒸镀膜层校准，对第一个坩埚进行蒸镀膜层校准时：基板设置台上放置第一个基板、第一个坩埚上方的源挡板移开、其他坩埚上方的源挡板保持封闭状态，然后第一个坩埚进行材料蒸镀，再测量第一个坩埚的蒸镀形成的膜层的厚度、均一性等性能；对第二个坩埚进行蒸镀膜层校准时：基板设置台上放置第二个基板、第二个坩埚上方的源挡板移开、其他坩埚上方的源挡板保持封闭状态，然后第二个坩埚进行材料蒸镀，再测量第二个坩埚的蒸镀形成的膜层的厚度、均一性等性能；依次类推完成所有坩埚的蒸镀膜层校准。
3.然而，现有技术的蒸镀膜层进行校准中，不同坩埚需要不同的基板来进行蒸镀膜层校准，坩埚数量越多需要的基板数量也越多，造成了基板资源的浪费，同时校准时间过长，减小了产能。


技术实现要素：

4.本技术实施例提供了一种蒸镀装置及蒸镀方法，可以解决在现有技术的蒸镀膜层进行校准中，不同坩埚需要不同的基板来进行蒸镀膜层校准，坩埚数量越多需要的基板数量也越多，造成了基板资源的浪费的技术问题，同时校准时间过长，减小了产能的技术问题。
5.本技术实施例提供了一种蒸镀装置，包括外壳、位于所述外壳内的容纳腔，以及设置于所述容纳腔内的：
6.基板设置台；
7.腔挡板，设置于所述基板设置台的下方，所述腔挡板可拆卸地设置于所述容纳腔内；
8.坩埚组，设置于所述腔挡板的下方，所述坩埚组至少包括第一坩埚和第二坩埚，所述第一坩埚和所述第二坩埚并列设置于所述腔挡板的下方；
9.其中，所述腔挡板包括开关组，所述开关组至少包括第一开关和第二开关，所述第一开关至少包括第一开口，所述第二开关至少包括第二开口，所述第一开关和所述第二开关可分别在打开与关闭状态之间切换，所述第一开关与所述第一坩埚对应设置，所述第二
开关与所述第二坩埚对应设置。
10.可选的，在本技术的一些实施例中，还包括源挡板组，源挡板组至少包括第一源挡板和第二源挡板，所述第一源挡板和所述第二源挡板可拆卸地设置于所述容纳腔内，所述第一源挡板对应所述第一坩埚设置于所述腔挡板和所述第一坩埚之间，所述第二源挡板对应所述第二坩埚设置于所述腔挡板和所述第二坩埚之间。
11.可选的，在本技术的一些实施例中，所述第一开口和所述第二开口的形状包括矩形、圆形、三角形、菱形中至少一种。
12.可选的，在本技术的一些实施例中，基板设置于所述基板设置台上时，所述基板可以沿第一方向移动；
13.所述第一开口和所述第二开口均呈条状设置，且所述第一开口的长度方向和所述第二开口的长度方向均垂直于所述第一方向。
14.可选的，在本技术的一些实施例中，所述第一开口由多个第一子开口组成，多个所述第一子开口垂直于所述第一方向上间隔的排布；
15.所述第二开口由多个第二子开口组成，多个所述第二子开口垂直于所述第一方向上间隔的排布。
16.可选的，在本技术的一些实施例中，所述第一开关还包括对应所述第一开口设置的第一盖体，所述第一盖体可以采用滑动或旋转的方式将所述第一开口打开和关闭；
17.所述第二开关还包括对应所述第二开口设置的第二盖体，所述第二盖体可以采用滑动或旋转的方式将所述第二开口打开和关闭。
18.可选的，在本技术的一些实施例中，所述第一源挡板在所述腔挡板上的正投影和所述第二源挡板在所述腔挡板上的正投影具有重叠的投影部位，所述重叠的投影部位与所述第一开口和所述第二开口均不重叠。
19.相应的，本技术实施例还提供了一种蒸镀方法，使用上述任一项所述的蒸镀装置进行蒸镀，包括如下步骤：
20.步骤s100：将基板固定设置于所述基板设置台上；
21.步骤s200：打开所述第一开关，并关闭所述第二开关，将所述第一坩埚中的蒸发材料通过所述第一开口蒸镀至所述基板的第一部位；
22.步骤s300：关闭所述第一开关，并打开所述第二开关，将所述第二坩埚中的蒸发材料通过所述第二开口蒸镀至所述基板的第二部位，所述第一部位不同于所述第二部位。
23.可选的，在本技术的一些实施例中，在所述步骤s200中包括将所述基板设置于第一位置，在所述步骤s300中还包括：移动所述基板至第二位置，所述第一位置不同于所述第二位置。
24.可选的，在本技术的一些实施例中，还包括如下步骤：
25.步骤s400：将所述基板从所述蒸镀装置中移出，测量在所述第一部位所蒸镀形成的膜层的厚度，以及测量在所述第二部位所蒸镀形成的膜层的厚度。
26.本技术实施例中，本技术实施例提供了一种蒸镀装置及蒸镀方法，在蒸镀装置中，多个源挡板和基板设置台之间设置一腔挡板，腔挡板可拆卸地设置于容纳腔内，腔挡板包括开关组，开关组至少包括第一开关和第二开关，第一开关包括第一开口，第二开关包括第二开口，第一开关和第二开关可分别在打开与关闭状态之间切换，第一开关与第一坩埚对
应设置，第二开关与第二坩埚对应设置，通过控制腔挡板上的第一开关和第二开关的打开和关闭，可以便利的在一个基板上的不同部位分别形成对应坩埚的蒸镀膜层，就可以通过一个基板实现了蒸镀装置中多个坩埚的蒸镀膜层校准，相比于现有技术，可以减小校准使用的基板的数量，避免资源浪费，同时减小了校准时间，提升了产能。
附图说明
27.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
28.图1是本技术一实施例提供的一种蒸镀装置的第一种结构示意图；
29.图2是本技术一实施例提供的一种蒸镀装置的第二种结构示意图；
30.图3是本技术一实施例提供的腔挡板的第一种俯视示意图；
31.图4是本技术一实施例提供的腔挡板的第二种俯视示意图；
32.图5是本技术一实施例提供的一种蒸镀方法的第一种流程步骤示意图；
33.图6是本技术一实施例提供的一种蒸镀方法的第一种过程示意图；
34.图7是本技术一实施例提供的一种蒸镀方法的第二种过程示意图；
35.图8是本技术一实施例提供的基板上的蒸镀膜层的示意图；
36.图9是本技术一实施例提供的一种蒸镀方法的第二种流程步骤示意图。
具体实施方式
37.下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本技术，并不用于限制本技术。在本技术中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
38.本技术实施例提供了一种蒸镀装置，包括外壳、外壳内的容纳腔，还包括：基板设置台；腔挡板，设置于基板设置台的下方，腔挡板可拆卸地设置于容纳腔内；坩埚组，设置于腔挡板的下方，坩埚组包括第一坩埚和第二坩埚，第一坩埚和第二坩埚并列设置于腔挡板的下方；其中，腔挡板包括开关组，开关组至少包括第一开关和第二开关，第一开关包括第一开口，第二开关包括第二开口，第一开关和第二开关可分别在打开与关闭状态之间切换，第一开关与第一坩埚对应设置，第二开关与第二坩埚对应设置。
39.本技术实施例提供一种蒸镀装置及蒸镀方法。以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
40.实施例一、
41.请参阅图1、图2、图3、图4，图1为本技术实施例提供的一种蒸镀装置1000的第一种结构示意图；图2为本技术实施例提供的一种蒸镀装置1000的第二种结构示意图；图3为本
申请实施例提供的腔挡板20的第一种俯视示意图；图4为本技术实施例提供的腔挡板20的第二种俯视示意图。
42.本实施例提供了一种蒸镀装置1000，蒸镀装置1000包括外壳1001、位于外壳1001内的容纳腔1002，蒸镀装置1000还包括设置于容纳腔1002内的基板设置台10、腔挡板20、源挡板30、坩埚组40。腔挡板20设置于基板设置台10的下方，腔挡板20可拆卸地设置于容纳腔1002内；坩埚组40设置于腔挡板20的下方，坩埚组40至少包括第一坩埚41和第二坩埚42，第一坩埚41和第二坩埚42并列设置于腔挡板20的下方；其中，腔挡板20包括开关组201，开关组201至少包括第一开关21和第二开关22，第一开关21包括第一开口211，第二开关22包括第二开口221，第一开关21和第二开关22可分别在打开与关闭状态之间切换，第一开关21与第一坩埚41对应设置，第二开关22与第二坩埚42对应设置。
43.具体的，蒸镀装置1000还包括设置于容纳腔1002内的基板设置台10，基板设置台10通过吸附或粘附等方式固定住基板100，基板100设置在基板设置台10和坩埚组40之间，基板100上需要形成蒸镀膜层的表面朝向坩埚组40。
44.具体的，坩埚组40设置于腔挡板20的下方，坩埚组40至少包括第一坩埚41和第二坩埚42，坩埚组还可以包括两个以上的坩埚，在此以第一坩埚41和第二坩埚42举例说明。
45.具体的，第一坩埚41和第二坩埚42并列设置于腔挡板20的下方，第一坩埚41和第二坩埚42并列，第一坩埚41和第二坩埚42可以同时对基板100表面形成蒸镀膜层。
46.具体的，腔挡板20包括开关组201，开关组201至少包括第一开关21和第二开关22，腔挡板20包括对应一个坩埚的一个或多个开关，在本实施例中，以第一坩埚41对应一个开关、第二坩埚42对应一个开关为例进行说明。
47.具体的，第一开关21至少包括第一开口211，第二开关22至少包括第二开口221，即每一开关包括一个或多个开口，在本实施例中，以第一开关21包括第一开口211、第二开关22包括第二开口221为例进行说明。
48.具体的，第一开关21与第一坩埚41对位设置，第一开关21打开时，第一坩埚41中的蒸镀材料可以通过第一开口211在基板100的表面形成对应的蒸镀膜层。
49.具体的，第二开关22与第二坩埚42对位设置，第二开关22打开时，第二坩埚42中的蒸镀材料可以通过第二开口221在基板100的表面形成对应的蒸镀膜层。
50.具体的，通过控制第一开关21的打开和关闭可以控制第一开口211的打开和关闭；通过控制第二开关22的打开和关闭可以控制第二开口221的打开和关闭。
51.如图1中，图1示意了本实施例提供的蒸镀装置中的第一开关21和第二开关22概念示意图；如图2中，图2示意了本实施例提供的蒸镀装置中的第一开关21和第二开关22一种具体结构举例示意图。
52.在一些实施例中，第一开关21还包括对应第一开口211设置的第一盖体212，第一盖体212可以采用滑动或旋转的方式将第一开口211打开和关闭；第二开关22还包括对应第二开口221设置的第二盖体222，第二盖体222可以采用滑动或旋转的方式将第二开口221打开和关闭。
53.具体的，图2中示意了，第一盖体212封闭了第一开口211，第一盖体212通过向左或向右滑动可以打开第一开口211；第一盖体212通过旋转滑动可以打开第一开口211。
54.具体的，图2中示意了，第二盖体222封闭了第二开口221，第二盖体222通过向左或
向右滑动可以打开第二开口221；第二盖体222通过旋转滑动可以打开第二开口221。
55.具体的，第一开关21打开或关闭第一开口211的方式不限于上述方式，第二开关22打开或关闭第二开口221的方式不限于上述方式。
56.在一些实施例中，第一开口211和第二开口221的形状包括矩形、圆形、三角形、菱形中至少一种。
57.在一些实施例中，如图2、图3所示，基板100设置于基板设置台10上时，基板100可以沿第一方向110移动；第一开口211和第二开口221均呈条状设置，且第一开口211的长度方向和第二开口221的长度方向均垂直于第一方向。
58.在一些实施例中，如图4所示，第一开口211由多个第一子开口2111组成，多个第一子开口2111垂直于第一方向110上间隔的排布；第二开口221由多个第二子开口2211组成，多个第二子开口2211垂直于第一方向110上间隔的排布。
59.在一些实施例中，进一步的，蒸镀装置1000还包括源挡板组30，源挡板组30至少包括第一源挡板31和第二源挡板32，第一源挡板31和第二源挡板32可拆卸地设置于容纳腔1002内，第一源挡板31对应第一坩埚41设置于腔挡板20和第一坩埚41之间，第二源挡板32对应第二坩埚42设置于腔挡板20和第二坩埚42之间。
60.具体的，源挡板组30包括两个或两个以上的源挡板，本实施例中以源挡板组30包括两个源挡板举例说明。
61.具体的，第一源挡板31对应第一坩埚41设置于腔挡板20和第一坩埚41之间，即第一源挡板31用于打开或关闭第一坩埚41，例如第一源挡板31移出容纳腔1002时，第一坩埚41可以形成蒸镀材料膜层至基板100的表面；第一源挡板31没有移出容纳腔1002时，由于第一源挡板31的遮挡，第一坩埚41不能形成蒸镀材料膜层至基板100的表面。同理，第二源挡板32的作用与第一源挡板31相同或相似，在此不再赘述。
62.在一些实施例中，进一步的，第一源挡板31在腔挡板20上的正投影和第二源挡板32在腔挡板20上的正投影具有重叠的投影部位，重叠的投影部位与第一开口211和第二开口221均不重叠。
63.具体的，第一源挡板31在腔挡板20上的正投影和第二源挡板32在腔挡板20上的正投影具有重叠的投影部位，重叠的投影部位与第一开口211和第二开口221均不重叠，那么移除第一源挡板31后，第二源挡板32不会对第一坩埚41通过第一开口211在基板表面形成蒸镀膜层产生遮挡。
64.在本技术实施例中，提供了一种蒸镀装置1000的各种实施情况，在蒸镀装置1000中，多个源挡板30和基板设置台10之间设置一腔挡板，腔挡板20包括开关组201，开关组201至少包括第一开关21和第二开关22，第一开关21包括第一开口211，第二开关22包括第二开口221，第一开关21和第二开关22可分别在打开与关闭状态之间切换，第一开关21与第一坩埚41对应设置，第二开关22与第二坩埚42对应设置，通过分别控制腔挡板20上的第一开关21和第二开关22的打开和关闭，可以便利的在一个基板100上的不同部位分别形成对应坩埚的蒸镀膜层，就可以通过一个基板实现了蒸镀装置中多个坩埚的蒸镀膜层校准，相比于现有技术，可以减小校准使用的基板的数量，避免资源浪费，同时减小了多个基板设置于容纳腔1002和多个基板移出容纳腔1002的时间，从而减小了校准时间，提升了产能。
65.实施例二、
66.请参阅图5、图6、图7、图8，图5为本技术实施例提供的一种蒸镀方法的第一种流程步骤示意图；图6为本技术实施例提供的一种蒸镀方法的第一种过程示意图；图7为本技术实施例提供的一种蒸镀方法的第二种过程示意图；
67.图8为本技术实施例提供的基板上的蒸镀膜层的示意图。
68.本实施例提供了一种蒸镀方法，本实施例的蒸镀方法使用实施例一中任一项的蒸镀装置1000进行蒸镀，包括流程步骤：步骤s100、步骤s200、步骤s300。
69.步骤s100：将基板固定设置于基板设置台上。
70.具体的，提供一基板1000，并将基板放置在基板设置台10上，实际上基板10设置在坩埚组40和基板设置台10之间。
71.步骤s200：打开第一开关，并关闭第二开关，将第一坩埚中的蒸发材料通过第一开口蒸镀至基板的第一部位。
72.具体的，如图6所示，将第一源挡板31移出容纳腔1002，第二源挡板32保持在容纳腔1002中的位置不变。
73.具体的，如图6所示，打开第一开关21，使得第一开口211打开，关闭第二开关22，使得第二开口221关闭。
74.具体的，将第一坩埚41中的蒸发材料通过第一开口211蒸镀至基板100的第一部位101。
75.步骤s300：关闭第一开关，并打开第二开关，将第二坩埚中的蒸发材料通过第二开口蒸镀至基板的第二部位，第一部位不同于第二部位。
76.具体的，如图7所示，将第二源挡板32移出容纳腔1002，第一源挡板31保持在容纳腔1002中的位置不变。
77.具体的，如图7所示，打开第二开关22，使得第二开口221打开，关闭第一开关21，使得第一开口211关闭。
78.具体的，将第二坩埚42中的蒸发材料通过第二开口221蒸镀至基板100的第二部位102。
79.具体的，在基板100上第一部位101不同于第二部位102。
80.具体的，如图8所示，示意了第一部位101的蒸镀膜层和第二部位102的蒸镀膜层。
81.在一些实施例中，在步骤s200中包括将基板100设置于第一位置，在步骤s300中还包括：移动基板100至第二位置，第一位置不同于第二位置。
82.具体的，基板100可以沿第一方向110移动，使得第一部位101不同于第二部位102，或者增大第一部位101和第二部位102之间的距离，防止第一部位101上的蒸镀膜层和第二部位102上的蒸镀膜层发生干扰。
83.在本技术实施例中，提供了一种蒸镀方法，使用实施例一中任一项的蒸镀装置进行蒸镀，通过分别控制腔挡板20上的第一开关21和第二开关22的打开和关闭，可以便利的在一个基板100上的不同部位分别形成对应坩埚的蒸镀膜层，就可以通过一个基板实现了蒸镀装置中多个坩埚的蒸镀膜层校准，相比于现有技术，可以减小校准使用的基板的数量，避免资源浪费，同时减小了多个基板设置于容纳腔1002和多个基板移出容纳腔1002的时间，从而减小了校准时间，提升了产能。
84.实施例三、
85.本实施例与实施例二相同或相似，不同之处在于：蒸镀方法还包括步骤s400。
86.请参阅图9，图9为本技术实施例提供的一种蒸镀方法的第二种流程步骤示意图。
87.本实施例提供的蒸镀方法是在实施例二的步骤s300之后，还包括步骤s400。
88.步骤s400：将基板从蒸镀装置中移出，测量在第一部位所蒸镀形成的膜层的厚度，以及测量在第二部位所蒸镀形成的膜层的厚度。
89.具体的，基板100的第一部位101形成了第一坩埚41的蒸镀膜层，基板100的第二部位102形成了第二坩埚42的蒸镀膜层。
90.具体的，将基板100移出蒸镀装置1000，可以对第一部位101和第二部位102的蒸镀膜层进行厚度、厚度均一性等方面的测试，以得到第一部位101的蒸镀膜层的厚度、厚度均一性等方面是否符合预设值的结果，以得到第二部位102的蒸镀膜层的厚度、厚度均一性等方面是否符合预设值，从而完成蒸镀膜层的校准。
91.在本技术实施例中，提供了一种蒸镀方法或者蒸镀膜层的校准方法，可以便利的在一个基板100上的第一部位和第二部位分别完成对应坩埚的蒸镀膜层的校准，就可以通过一个基板实现了蒸镀装置中多个坩埚的蒸镀膜层校准，相比于现有技术，可以减小校准使用的基板的数量，避免资源浪费，同时减小了校准时间，提升了产能。
92.以上对本技术实施例所提供的一种蒸镀装置及蒸镀方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本技术的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本技术的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本技术的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本技术的限制。

技术特征：
1.一种蒸镀装置，其特征在于，包括外壳、位于所述外壳内的容纳腔，以及设置于所述容纳腔内的：基板设置台；腔挡板，设置于所述基板设置台的下方，所述腔挡板可拆卸地设置于所述容纳腔内；坩埚组，设置于所述腔挡板的下方，所述坩埚组至少包括第一坩埚和第二坩埚，所述第一坩埚和所述第二坩埚并列设置于所述腔挡板的下方；其中，所述腔挡板包括开关组，所述开关组至少包括第一开关和第二开关，所述第一开关至少包括第一开口，所述第二开关至少包括第二开口，所述第一开关和所述第二开关可分别在打开与关闭状态之间切换，所述第一开关与所述第一坩埚对应设置，所述第二开关与所述第二坩埚对应设置。2.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，还包括源挡板组，源挡板组至少包括第一源挡板和第二源挡板，所述第一源挡板和所述第二源挡板可拆卸地设置于所述容纳腔内，所述第一源挡板对应所述第一坩埚设置于所述腔挡板和所述第一坩埚之间，所述第二源挡板对应所述第二坩埚设置于所述腔挡板和所述第二坩埚之间。3.如权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第一开口和所述第二开口的形状包括矩形、圆形、三角形、菱形中至少一种。4.如权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，基板设置于所述基板设置台上时，所述基板可以沿第一方向移动；所述第一开口和所述第二开口均呈条状设置，且所述第一开口的长度方向和所述第二开口的长度方向均垂直于所述第一方向。5.如权利要求4所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第一开口由多个第一子开口组成，多个所述第一子开口垂直于所述第一方向上间隔的排布；所述第二开口由多个第二子开口组成，多个所述第二子开口垂直于所述第一方向上间隔的排布。6.如权利要求1或2所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第一开关还包括对应所述第一开口设置的第一盖体，所述第一盖体可以采用滑动或旋转的方式将所述第一开口打开和关闭；所述第二开关还包括对应所述第二开口设置的第二盖体，所述第二盖体可以采用滑动或旋转的方式将所述第二开口打开和关闭。7.如权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第一源挡板在所述腔挡板上的正投影和所述第二源挡板在所述腔挡板上的正投影具有重叠的投影部位，所述重叠的投影部位与所述第一开口和所述第二开口均不重叠。8.一种蒸镀方法，使用如权利要求1至7中任一项所述的蒸镀装置进行蒸镀，其特征在于，包括如下步骤：步骤s100：将基板固定设置于所述基板设置台上；步骤s200：打开所述第一开关，并关闭所述第二开关，将所述第一坩埚中的蒸发材料通过所述第一开口蒸镀至所述基板的第一部位；步骤s300：关闭所述第一开关，并打开所述第二开关，将所述第二坩埚中的蒸发材料通过所述第二开口蒸镀至所述基板的第二部位，所述第一部位不同于所述第二部位。
9.如权利要求8所述的蒸镀方法，其特征在于，在所述步骤s200中包括将所述基板设置于第一位置，在所述步骤s300中还包括：移动所述基板至第二位置，所述第一位置不同于所述第二位置。10.如权利要求8所述的蒸镀方法，其特征在于，还包括如下步骤：步骤s400：将所述基板从所述蒸镀装置中移出，测量在所述第一部位所蒸镀形成的膜层的厚度，以及测量在所述第二部位所蒸镀形成的膜层的厚度。

技术总结
本申请实施例公开了一种蒸镀装置及蒸镀方法，在蒸镀装置中，腔挡板包括开关组，开关组至少包括第一开关和第二开关，第一开关包括第一开口，第二开关包括第二开口，第一开关和第二开关可分别在打开与关闭状态之间切换，第一开关与第一坩埚对应设置，第二开关与第二坩埚对应设置，通过控制腔挡板上的第一开关和第二开关的打开和关闭，可以便利的在一个基板上的不同部位分别形成对应坩埚的蒸镀膜层，就可以通过一个基板实现了蒸镀装置中多个坩埚的蒸镀膜层校准，相比于现有技术，可以减小校准使用的基板的数量，同时减小了校准时间，提升了产能。产能。产能。


技术研发人员：匡友元
受保护的技术使用者：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
技术研发日：2021.12.06
技术公布日：2022/3/8