显示面板及制作方法、显示装置、掩膜条和掩膜板与流程

专利查询2023-11-14  96



1.本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及制作方法、显示装置、掩膜条和掩膜板。


背景技术:

2.在有机发光二极管(organic light emitting diode,可以简称为oled)显示面板中,各个发光器件(即oled)的一电极(例如阴极)可以相互连接,也可以说,各个发光器件的电极可以为一连续膜层,可以向该连续膜层写入一电信号来控制各个发光器件的发光。基于此,该膜层的导电性能对显示面板的显示效果具有较大影响,例如,相邻发光器件的电极之间的电连接性能可能较差,影响显示面板的显示效果。


技术实现要素:

3.本发明的实施例提供一种显示面板及制作方法、显示装置、掩膜条和掩膜板,以改善显示面板中相邻发光器件的电极之间的电连接性能较差的问题。
4.为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
5.第一方面,提供了一种显示面板,包括基板、第一电极层、像素界定层、隔离结构、多个发光功能层、第二电极层以及导体层。其中,第一电极层设置在基板上,第一电极层包括多个第一电极。像素界定层设置在第一电极层远离基板的一侧,像素界定层具有多个第一开口,一第一开口露出一第一电极的至少一部分。隔离结构设置在基板上,且设置在相邻的两个第一开口之间。多个发光功能层设置在第一电极层远离基板的一侧,至少一个发光功能层在隔离结构处断开。第二电极层设置在多个发光功能层远离基板的一侧。导体层设置在第二电极层远离基板的一侧,导体层包括多个连接图案,一连接图案与第二电极层中位于隔离结构沿第一方向的两侧的部分接触,第一方向为相邻的两个第一开口的排列方向。
6.在一些实施例中,连接图案包括第一超出部分和第二超出部分,第一超出部分和第二超出部分位于隔离结构的上表面在第一方向上的两侧,且均与第二电极层接触;隔离结构的上表面为隔离结构中远离基板的表面。第一超出部分和第二超出部分在第一方向上的尺寸之和大于或等于1μm。
7.在一些实施例中,多个连接图案呈交错阵列分布。
8.在一些实施例中,连接图案在基板上的正投影为矩形;或者,连接图案包括中心部分,以及由中心部分凸出的n个凸出部分,n个凸出部分沿中心部分的周向均匀分布,n为偶数且大于或等于4。
9.在一些实施例中,相邻两个连接图案之间的最小距离大于或等于10μm。
10.在一些实施例中,隔离结构包括沿远离基板的方向依次层叠设置的第一图案,第二图案和第三图案,第二图案在基板上的正投影位于第一图案在基板上的正投影的内部,第二图案在基板上的正投影位于第三图案在基板上的正投影的内部。
11.在一些实施例中,隔离结构包括沿远离基板的方向依次分布的下表面和上表面,下表面在基板上的正投影位于上表面在基板上的正投影的内部。
12.在一些实施例中,多个发光功能层包括第一发光层,第二发光层以及电荷产生层,电荷产生层设置在第一发光层和第二发光层之间,电荷产生层在隔离结构处断开。
13.在一些实施例中,第二电极层在隔离结构处断开。
14.第二方面,提供一种显示装置,包括上述任一实施例提供的显示面板。
15.第三方面,提供一种掩膜条。该掩膜条被配置为制作上述任一实施例提供的显示面板中的导体层。该掩膜条具有图案区和多个第二开口,多个第二开口设置在图案区中,一第二开口被配置为制作导体层中的一连接图案。
16.在一些实施例中,第二开口的边沿围成的图形为矩形;或者,第二开口包括中心子开口,以及由中心子开口凸出的n个凸出子开口,n个凸出子开口沿中心子开口的周向均匀分布,n为偶数且大于或等于4。
17.在一些实施例中,第二开口具有沿第二方向分布且相互连通的第一子开口和第二子开口,第一子开口的深度大于或等于第二子开口的深度,第二方向为掩膜条的厚度方向,第一子开口的轮廓角为30
°
~70
°

18.第四方面,提供一种掩膜板,包括框架,以及固定安装在框架上的掩膜条,掩膜条为上述任一实施例提供的掩膜条。
19.第五方面,提供一种显示面板的制作方法,包括在基板上形成第一电极层,第一电极层包括多个第一电极;在第一电极层远离基板的一侧形成像素界定层,像素界定层具有多个第一开口,一第一开口露出一第一电极的至少一部分;在基板上形成隔离结构,隔离结构设置在相邻的两个第一开口之间;在带有隔离结构的基板上形成多个发光功能层,多个发光功能层设置在第一电极层远离基板的一侧,至少一个发光功能层在隔离结构处断开;在多个发光功能层远离基板的一侧形成第二电极层;使用上述任一实施例提供的掩膜板,在第二电极层远离基板的一侧形成导体层,导体层包括多个连接图案,一连接图案与第二电极层中位于隔离结构沿第一方向的两侧的部分接触,第一方向为相邻的两个第一开口的排列方向。
20.在本公开的一些实施例提供的显示面板中,导体层中的一连接图案与第二电极层中位于隔离结构沿第一方向的两侧的部分接触,因此,通过该连接图案,第二电极层中位于隔离结构沿第一方向的两侧的部分可以相互耦接。因此,第二电极层和导体层形成的整体的导电性能较好,可以改善相邻子像素中发光器件的第二电极之间的电连接性能,进而可以改善显示面板的显示效果。
21.可以理解地,第二方面所述的显示装置包括上述的显示面板,第三方面所述的掩膜条和第四方面所述的掩膜板用于制作上述显示面板中的导体层,第五方面所述的显示面板的制作方法用于制作上述显示面板,因此,其所能达到的有益效果可参考上文中显示面板的有益效果,在此不再赘述。
附图说明
22.为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实
施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
23.图1为根据一些实施例的显示装置的结构图;
24.图2为根据一些实施例的显示面板的结构图;
25.图3为根据一些实施例的显示面板中发光器件的结构图;
26.图4为根据一些实施例的显示面板中发光器件的发光单元的结构图;
27.图5为根据一些实施例的显示面板的结构图;
28.图6为图5中显示面板的俯视图;
29.图7为根据一些实施例的显示面板的结构图;
30.图8为图5中显示面板的俯视图;
31.图9为图8的显示面板的局部放大图;
32.图10为根据一些实施例的显示面板中一连接图案的俯视图;
33.图11为根据一些实施例的显示面板中一连接图案的俯视图;
34.图12为根据一些实施例的掩膜条的局部放大图;
35.图13为根据一些实施例的显示面板的局部放大图;
36.图14为图5的显示面板中隔离结构的结构图;
37.图15为根据一些实施例的显示面板的制作方法的工艺流程图;
38.图16为根据一些实施例的显示面板的结构图;
39.图17为图16的显示面板中隔离结构的结构图;
40.图18为图16的显示面板的俯视图;
41.图19为根据一些实施例的掩膜条的结构图;
42.图20为根据一些实施例的掩膜条的局部放大图;
43.图21为根据一些实施例的掩膜条的局部放大图;
44.图22为根据一些实施例的掩膜条的局部放大图;
45.图23为图21的掩膜条的第二开口的俯视图;
46.图24为图22的掩膜条的第二开口的俯视图;
47.图25为根据一些实施例的掩膜条的第二开口的剖视图;
48.图26为根据一些实施例的掩膜条的第二开口的剖视图;
49.图27为相邻两个开口的剖视图;
50.图28为根据一些实施例的掩膜板的结构图;
51.图29为根据一些实施例的显示面板的制作方法的流程图。
具体实施方式
52.下面将结合附图,对本公开一些实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本公开一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本公开所提供的实施例,本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例,都属于本公开保护的范围。
53.除非上下文另有要求,否则,在整个说明书和权利要求书中,术语“包括(comprise)”及其其他形式例如第三人称单数形式“包括(comprises)”和现在分词形式“包括(comprising)”被解释为开放、包含的意思,即为“包含,但不限于”。在说明书的描述中,
术语“一个实施例(one embodiment)”、“一些实施例(some embodiments)”、“示例性实施例(exemplary embodiments)”、“示例(example)”、“特定示例(specific example)”或“一些示例(some examples)”等旨在表明与该实施例或示例相关的特定特征、结构、材料或特性包括在本公开的至少一个实施例或示例中。上述术语的示意性表示不一定是指同一实施例或示例。此外,所述的特定特征、结构、材料或特点可以以任何适当方式包括在任何一个或多个实施例或示例中。
54.以下,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本公开实施例的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
55.在描述一些实施例时,可能使用了“耦接”和“连接”及其衍伸的表达。例如,描述一些实施例时可能使用了术语“连接”以表明两个或两个以上部件彼此间有直接物理接触或电接触。又如,描述一些实施例时可能使用了术语“耦接”以表明两个或两个以上部件有直接物理接触或电接触。然而,术语“耦接”或“通信耦合(communicatively coupled)”也可能指两个或两个以上部件彼此间并无直接接触,但仍彼此协作或相互作用。这里所公开的实施例并不必然限制于本文内容。
[0056]“a、b和c中的至少一个”与“a、b或c中的至少一个”具有相同含义,均包括以下a、b和c的组合:仅a,仅b,仅c,a和b的组合,a和c的组合,b和c的组合,及a、b和c的组合。
[0057]“a和/或b”,包括以下三种组合:仅a,仅b,及a和b的组合。
[0058]
本文中“被配置为”的使用意味着开放和包容性的语言,其不排除适用于或被配置为执行额外任务或步骤的设备。
[0059]
另外,“基于”的使用意味着开放和包容性,因为“基于”一个或多个所述条件或值的过程、步骤、计算或其他动作在实践中可以基于额外条件或超出所述的值。
[0060]
如本文所使用的那样,“大致”或“近似”包括所阐述的值以及处于特定值的可接受偏差范围内的平均值,其中所述可接受偏差范围如由本领域普通技术人员考虑到正在讨论的测量以及与特定量的测量相关的误差(即,测量系统的局限性)所确定。
[0061]
如本文所使用的那样,“平行”、“垂直”、“相等”包括所阐述的情况以及与所阐述的情况相近似的情况,该相近似的情况的范围处于可接受偏差范围内,其中所述可接受偏差范围如由本领域普通技术人员考虑到正在讨论的测量以及与特定量的测量相关的误差(即,测量系统的局限性)所确定。例如,“平行”包括绝对平行和近似平行,其中近似平行的可接受偏差范围例如可以是5
°
以内偏差;“垂直”包括绝对垂直和近似垂直,其中近似垂直的可接受偏差范围例如也可以是5
°
以内偏差。“相等”包括绝对相等和近似相等,其中近似相等的可接受偏差范围内例如可以是相等的两者之间的差值小于或等于其中任一者的5%。
[0062]
应当理解的是,当层或元件被称为在另一层或基板上时,可以是该层或元件直接在另一层或基板上,或者也可以是该层或元件与另一层或基板之间存在中间层。
[0063]
本文参照作为理想化示例性附图的剖视图和/或平面图描述了示例性实施方式。在附图中,为了清楚,放大了层和区域的厚度。因此,可设想到由于例如制造技术和/或公差引起的相对于附图的形状的变动。因此,示例性实施方式不应解释为局限于本文示出的区
域的形状,而是包括因例如制造而引起的形状偏差。例如,示为矩形的蚀刻区域通常将具有弯曲的特征。因此,附图中所示的区域本质上是示意性的,且它们的形状并非旨在示出设备的区域的实际形状,并且并非旨在限制示例性实施方式的范围。
[0064]
本公开的一些实施例提供了一种显示装置。图1为根据一些实施例的显示装置的结构图。参见图1,显示装置1为具有图像(包括:静态图像或动态图像,其中,动态图像可以是视频)显示功能的产品。例如,显示装置1可以是:显示器,电视机,广告牌,数码相框,具有显示功能的激光打印机,电话,手机,个人数字助理(personal digital assistant,pda),数码相机,便携式摄录机,取景器,导航仪,车辆,大面积墙壁,家电,信息查询设备(如电子政务、银行、医院、电力等部门的业务查询设备),监视器等中的任一种。
[0065]
显示装置1可以包括显示面板10,显示装置1还可以包括与显示面板10耦接的驱动控制电路20。驱动控制电路20被配置为向显示面板10提供电信号。示例性地,驱动控制电路20可以包括:数据驱动电路210(也可以称为源极驱动器,source driver ic),数据驱动电路210被配置为向显示面板10提供数据驱动信号(也称为数据信号)。驱动控制电路20还可以包括与数据驱动电路210耦接的时序控制电路220(也可以称为时序控制器,timer control register,简称为tcon)等。
[0066]
在一些实施例中,驱动控制电路20还可以包括扫描驱动电路110。在另一些实施例中,扫描驱动电路110可以集成在显示面板10中,也可以说,显示面板10可以包括扫描驱动电路110。由于扫描驱动电路110设置在显示面板10上,因此,扫描驱动电路110也可以称为goa(gate driver on array,设置在阵列基板上的扫描驱动电路)。
[0067]
具体地,时序控制电路220可以与扫描驱动电路110耦接,还可以与数据驱动电路210耦接。时序控制电路220可以被配置为接收显示信号,显示信号例如包括电源信号、视频图像信号、通信信号(例如iic通信协议对应的信号)、以及模式控制信号(例如测试模式对应的模式控制信号,或者正常显示模式对应的模式控制信号)等。其中,视频图像信号例如是mipi(mobile industry processor interface,移动行业处理器接口)信号、lvds(low-voltage differential signaling,低电压差分信号)信号。视频图像信号可以包括:图像数据和时序控制信号。图像数据例如包括多个子像素的像素数据,像素数据可以是rgb数据等。时序控制信号例如包括数据使能信号(data enable,可以简称为de)、行同步信号(hsync,可以简称为hs)、场同步信号(vsync,可以简称为vs)。
[0068]
时序控制电路220还可以被配置为响应于显示信号,向数据驱动电路210输出第一控制信号和图像数据,向扫描驱动电路110输出第二控制信号。其中,第一控制信号被配置为控制数据驱动电路210的工作时序,第二控制信号被配置为控制扫描驱动电路110的工作时序。
[0069]
数据驱动电路210可以被配置为将接收到的图像数据转换成显示面板10中的多个子像素p(将在下文进行说明)的数据信号,并按照第一控制信号确定的工作时序将数据信号输出至相应子像素p中的像素驱动电路m(将在下文进行说明)。扫描驱动电路110被配置为按照第二控制信号确定的工作时序将扫描信号输出至多个子像素p中的像素驱动电路m。
[0070]
本公开的一些实施例还提供了一种显示面板。该显示面板可以作为上述任一实施例提供的显示装置中的显示面板。当然,该显示面板还可以应用于其他显示装置中,本公开对此不作限制。
[0071]
图2为根据一些实施例的显示面板的结构图,示出了显示面板中显示区的结构。需要说明的是,图2仅示出了显示面板的显示区的结构,而省略了周边区的结构,例如,省略了扫描驱动电路。此外,图2示出的显示面板中子像素的排列方式仅是示例性地,在本公开的实施例提供的显示面板中,子像素还可以具有其他排列方式。
[0072]
参见图2,显示面板10可以是oled(organic light emitting diode,有机发光二极管)显示面板、qled(quantum dot light emitting diodes,量子点发光二极管)显示面板、微led(包括:miniled或microled,led为发光二极管)显示面板中的一种。
[0073]
显示面板10具有显示区aa和周边区sa。周边区sa可以位于显示区aa的至少一侧(例如,一侧;又如,四周,即包括上下两侧和左右两侧)。
[0074]
显示面板10包括设置在显示区aa中的多个子像素p。通过多个子像素p发射的光,显示面板10可以在显示区aa中显示预定的图像。具体地,多个子像素p可以包括发光颜色不同的多个子像素。示例性地,多个子像素p包括第一子像素p1、第二子像素p2以及第三子像素p3。第一子像素p1、第二子像素p2和第三子像素p3分别发射三基色光,例如,第一子像素p1可以发射红光,第二子像素p2可以发射绿光,第三子像素p3可以发射蓝光。
[0075]
一子像素p可以包括一个发光器件e和与该发光器件e耦接的像素驱动电路m。
[0076]
其中,像素驱动电路m可以被配置为响应于接收到的扫描信号和数据信号,向与该像素驱动电路m耦接的发光器件e提供电信号(例如驱动电压或驱动电流),以驱动该发光器件e发光,从而使得显示面板10可以显示画面。
[0077]
像素驱动电路m可以包括多个晶体管和至少一个(例如,一个;又如,多个)电容器。例如,像素驱动电路m可以为“2t1c”、“6t1c”、“7t1c”、“6t2c”或“7t2c”等结构。此处,“t”表示为晶体管,例如为薄膜晶体管。位于“t”前面的数字表示为晶体管的数量。“c”表示为电容器,位于“c”前面的数字表示为电容器的数量。
[0078]
发光器件e可以是有机发光二极管oled、量子点发光二极管qled和发光二极管led中的一种。下文将以发光器件e为有机发光二极管oled为例,对发光器件e的结构进行说明。可以理解地,其他类型发光器件e的结构可以与有机发光二极管的结构类似,可以参照下文的相关说明,在此不再赘述。
[0079]
图3为显示面板中发光器件的结构图。发光器件e可以包括第一电极ed1、第二电极ed2以及叠层设置的多个发光功能图案fp,这些发光功能图案fp位于第一电极ed1和第二电极ed2之间。
[0080]
第一电极ed1和第二电极ed2可以被配置为写入电信号,使得发光器件e中可以形成驱动电流。在一些实施例中,第一电极ed1可以是阳极,相应地,第二电极ed2可以是阴极。
[0081]
其中,第一电极ed1的材料可以包括金属化合物,例如氧化铟锡(ito)或氧化铟锌(izo)。第一电极ed1的材料还可以包括金属或合金,例如镁(mg)、钛(ti)、银(ag)等金属或多种金属形成的合金。在一些实施例中,第一电极ed1可以为反射电极,反射电极可以反射光线,使得发光功能图案fp发射的光线中射向第一电极ed1的部分可以被反射,进而可以向第二电极ed2一侧出射。
[0082]
第二电极ed2的材料可以包括金属或合金,例如镁(mg)、钛(ti)、银(ag)等金属或多种金属形成的合金。第二电极ed2的材料还可以包括金属化合物,例如氧化铟锡(ito)或氧化铟锌(izo)。在一些实施例中,第二电极ed2可以是透明的,使得光线可以透过第二电极
ed2而出射。
[0083]
多个发光功能图案fp可以形成至少一个(例如,一个;又如,多个)发光单元u。发光单元u可以发射光线。在一些实施例中,一发光单元u能够支持空穴注入、空穴传输、电子注入、电子传输和电子空穴复合,以产生光。
[0084]
具体地,参见图4,图4为发光单元的结构图。一发光单元u可以包括发光图案l,也可以说,形成一发光单元u的多个发光功能图案fp包括发光图案l。发光图案l可以发射光线,使得包括该发光图案l的发光单元u可以发射光线。示例性地,发光图案l可以发射三基色的光线,例如红色光线、绿色光线、蓝色光线。发光图案l还可以发射白色光线。在一些实施例中,发光图案l为有机发光图案,电子和空穴可以在发光图案l中复合,使得发光图案l可以发射光线。
[0085]
发光单元u还可以包括空穴注入图案、空穴传输图案、电子传输图案、电子注入图案、空穴阻挡图案和电子阻挡图案中的一个或多个,也可以说,形成一发光单元u的多个发光功能图案fp可以包括上述图案。其中,空穴注入图案可以被配置为注入空穴,空穴传输图案可以被配置为传输空穴,电子传输图案可以被配置为传输电子,电子注入图案可以被配置为注入电子,空穴阻挡图案可以被配置为减少空穴的传输,电子阻挡图案可以被配置为减少电子的传输。
[0086]
在一些实施例中,在一发光单元u中,发光图案l靠近阴极的一侧可以设置有电子注入图案、电子传输图案和空穴阻挡图案中的一个或多个,发光图案l靠近阳极的一侧可以设置有空穴注入图案、空穴传输图案和电子阻挡图案中的一个或多个。
[0087]
继续参见图3,在一些实施例中,发光器件e的多个发光功能图案fp可以形成一个发光单元u。在另一些实施例中,发光器件e的多个发光功能图案fp可以形成多个发光单元u,例如第一发光单元u1和第二发光单元u2,此时,发光器件e可以称为串联式发光器件,例如。发光器件e可以为串联式有机发光二极管(可以简称为串联式oled)。
[0088]
进一步地,在串联式发光器件中,多个发光功能图案fp还可以包括电荷产生图案cl。电荷产生图案cl设置在相邻两个发光单元u之间。参见图3和图4,也可以说,在发光器件e中,多个发光功能图案fp包括多个发光图案l和至少一个电荷产生图案cl,一电荷产生图案cl(例如每个电荷产生图案cl)设置在相邻两个发光图案l之间。电荷产生图案cl可以被配置为将载流子(例如包括空穴和电子)注入邻接的发光单元u中。这样,在发光器件e中,对于一发光单元u而言,其一部分载流子由阳极或阴极提供,另一部分载流子在电荷产生层cl中生成,使得串联式发光器件在单一电源下(即仅向第一电极和第二电极写入电信号的情况下)各个发光单元均可发光。相比于仅具有一个发光单元的发光器件,在发光亮度相同的情况下,串联式发光器件的功耗理论上可以降低一半。
[0089]
继续参见图3和图4,在一些实施例中,在发光器件e中,多个发光功能图案fp包括第一发光图案(设置在第一发光单元u1中)、第二发光图案(设置在第二发光单元u2中)和电荷产生图案cl,电荷产生图案cl设置在第一发光图案和第二发光图案之间。当然,发光器件e还可以包括更多的(多于两个)发光单元,也可以说,发光器件e还可以包括更多的(多于两个)发光图案,本公开对此不作限制。
[0090]
此外,在串联发光器件中,每个发光单元u可以具有与其他发光单元u相同或不同的结构,例如,第一发光单元u1中的发光功能图案的种类和数量与第二发光单元u2中的发
光功能图案的种类和数量可以相同,也可以不同。此外,每个发光单元u发射光的颜色与其他发光单元u发射光的颜色可以相同,也可以不同。
[0091]
图5为根据一些实施例的显示面板的结构图。需要说明的是,图5中仅示出了显示面板中的一些膜层,例如,示出了基板、第一电极层、发光功能层中的一个以及第二电极层,而省略了其他膜层,例如省略了一些发光功能层以及设置在基板上的像素驱动电路。
[0092]
参见图5,显示面板10包括基板sub,以及设置在基板sub上的第一电极层120、像素界定层170、多个发光功能层130以及第二电极层140。其中,第一电极层120、多个发光功能层130以及第二电极层140可以形成至少一个(例如,一个;又如,多个)发光器件。
[0093]
具体地,基板sub可以对显示面板10中的其他结构起支撑作用。基板sub的材料可以包括玻璃、pi(polyimide,聚酰亚胺)、pet(polyethylene glycol terephthalate,聚对苯二甲酸乙二醇酯)等。
[0094]
第一电极层120包括多个第一电极ed1。参见上文的说明,一第一电极ed1(例如每个第一电极ed1)可以为一发光器件的电极,示例性地,一第一电极ed1可以为一发光器件的阳极。多个发光器件的第一电极ed1之间可以相互隔开,这样,在多个发光器件中,一发光器件的第一电极ed1可以单独写入电信号,多个发光器件的多个第一电极ed1可以写入不同的电信号,使得多个发光器件的发光亮度可以不同。
[0095]
像素界定层170设置在第一电极层120远离基板sub的一侧。像素界定层170具有多个第一开口h1,一第一开口h1(例如每个第一开口h1)露出一第一电极ed1的至少一部分(例如,部分;又如,全部)。
[0096]
第二电极层140包括多个第二电极。参见上文的说明,一第二电极可以作为一发光器件的电极,示例性地,一第二电极可以为一发光器件的阴极。在一些实施例中,多个发光器件的第二电极可以相互连接,此时,第二电极层140可以为沿垂直于显示面板10厚度方向的方向延展的连续膜层,一第二电极为第二电极层140中正投影(例如在基板上的正投影)与一第一电极ed1重叠的部分。需要说明的是,显示面板10的厚度方向例如平行于z轴方向,垂直于显示面板10厚度方向的方向例如平行于x-y平面(x-y平面为由x轴方向和y轴方向确定的平面,x轴方向和y轴方向垂直于z轴方向,且x轴方向和y轴方向交叉)。
[0097]
在一些可能的实现方式中,可以使用开放式掩膜板(open mask)制作第二电极层140,此时,第二电极层140可以为沿垂直于显示面板10厚度方向的方向延展的连续膜层。
[0098]
由于第二电极层140可以为沿垂直于显示面板10厚度方向的方向延展的连续膜层,因此,第二电极层140可以被配置为写入电信号,使得多个发光器件中的多个第二电极可以写入同一电信号。
[0099]
多个发光功能层130设置在第一电极层120远离基板sub的一侧,具体地,多个发光功能层130可以层叠设置在第一电极层120和第二电极层140之间。示例性地,沿显示面板10的厚度方向,第一电极层120、多个发光功能层130以及第二电极层140可以依次设置。
[0100]
需要说明的是,在本文中,一发光功能层130可以包括多个彼此隔开的图案。一发光功能层130也可以为一连续膜层,此时,该连续膜层在第一电极层120上的正投影与一第一电极重叠的部分为一个图案。
[0101]
具体地,多个发光功能层130可以包括发光层。参见上文的说明,发光层可以包括多个发光器件的多个发光图案。
[0102]
在一些实施例中,显示面板10中的一发光器件(例如每个发光器件)为串联式发光器件,此时,多个发光功能层130可以包括多个发光层。示例性地,多个发光功能层130包括第一发光层和第二发光层,其中,参见上文的说明,第一发光层包括多个第一发光图案,第二发光层包括多个第二发光图案。
[0103]
进一步地,多个发光功能层130还可以包括至少一个(例如,一个;又如,多个)电荷产生层。参见上文的说明,一电荷产生层可以包括多个电荷产生图案。在一些可能的实现方式中,电荷产生层中的多个电荷产生图案相互连接,此时,电荷产生层可以为沿垂直于显示面板10厚度方向的方向延展的连续膜层。示例性地,可以使用开放式掩膜板(open mask)制作电荷产生层。
[0104]
一电荷产生层(例如每个电荷产生层)位于相邻两个发光层之间,示例性地,一电荷产生层位于第一发光层和第二发光层之间。
[0105]
在一些实施例中,多个发光功能层130还包括位于发光层靠近阴极一侧的电子注入层(eil)、电子传输层(etl)和空穴阻挡层(hbl)中的一个或多个。多个发光功能层130还可以包括位于发光层靠近阳极一侧的空穴注入层(hil)、空穴传输层(htl)和电子阻挡层(ebl)中的一个或多个。
[0106]
对于上述电子注入层、电子传输层、空穴阻挡层、空穴注入层、空穴传输层以及电子阻挡层中的一个而言,其可以包括多个发光器件的多个相应图案,例如电子注入层可以包括多个发光器件的多个电子注入图案。在一些可能的实现方式中,对于上述电子注入层、电子传输层、空穴阻挡层、空穴注入层、空穴传输层以及电子阻挡层中的一个而言,其中的多个图案可以相互连接,此时,该层可以为沿垂直于显示面板10厚度方向的方向延展的连续膜层。
[0107]
图6为图5中的显示面板的俯视图。需要说明的是,图6中仅示出了显示面板的部分膜层,例如,示出了第一电极层、隔离结构和第二电极层,而省略了显示面板的其他结构,例如,省略了发光功能层以及导体层(将在下文进行说明)。
[0108]
参见图5和图6,显示面板10还包括隔离结构150。隔离结构150设置在相邻两个第一开口h1之间。下面,将对隔离结构150设置在相邻两个第一开口h1之间进行详细的说明。
[0109]
在本文中,两个第一开口h1相邻可以意指,这两个第一开口h1之间没有其他第一开口。
[0110]
在本文中,a设置在b和c之间可以意指,在b和c的排列方向上,b、a以及c依次分布。并且,a与b正对且a与c正对。基于此,隔离结构150设置在相邻两个第一开口h1之间可以意指,沿该相邻两个第一开口h1的排列方向,一第一开口h1、隔离结构150以及另一第一开口h1依次分布,并且,隔离结构150与这两个第一开口h1均正对。
[0111]
具体地,在本文中,b和c的排列方向可以为b在基板上的正投影的中心和c在基板上的正投影的中心的连线所确定的方向。其他任意两个结构的排列方向也可以参照上述说明。a与b正对可以意指,在垂直于a和b排列方向的方向上,a的边沿相比于b的边沿齐平或内缩。
[0112]
基于上述,参见图6,以隔离结构150设置在第一开口h1-a和第一开口h1-b之间为例,在第一开口h1-a和第一开口h1-b的排列方向(例如为第一开口h1-a在基板上的正投影的中心和第一开口h1-b在基板上的正投影的中心的连线方向,该排列方向例如平行于x轴
方向)上,第一开口h1-a、隔离结构150以及第一开口h1-b依次设置。隔离结构150与第一开口h1-a正对,即,沿y轴方向,隔离结构150的边沿相比于第一开口h1-a的边沿齐平或内缩,例如,位置线l1和l2示出了第一开口h1-a沿y轴方向的边沿的延长线,隔离结构150沿y轴方向的边沿相比于位置线l1和l2齐平或内缩。并且,隔离结构150与第一开口h1-b正对,类似地,沿y轴方向,隔离结构150的边沿相比于第一开口h1-b的边沿齐平或内缩。
[0113]
继续参见图6,上文是以隔离结构150位于第一开口h1-a和第一开口h1-b之间为例来说明,此时,相邻的第一开口h1-a和第一开口h1-b的排列方向可以平行于x轴方向。可以理解地,在显示面板10中,相邻的两个第一开口h1的排列方向还可以是其他方向,例如,第一开口h1-c和第一开口h1-a的排列方向可以平行于y轴方向。
[0114]
继续参见图6,隔离结构150可以被配置为使得设置在其上(即设置在隔离结构150远离基板sub的一侧)的一个或多个膜层断开或者增大该一个或多个膜层在隔离结构150处的电阻。示例性地,多个发光功能层中的一个或多个的导电性较好,可能会导致相邻子像素串扰的问题。可以通过隔离结构150将该一个或多个发光功能层隔断,或者,通过设置隔离结构,使得该一个或多个发光功能层在隔离结构处的电阻增大。这样,可以减弱该发光功能层的导电性,改善相邻子像素串扰的问题。
[0115]
对于一第一开口h1而言,在垂直于显示面板厚度方向的方向上,该第一开口h1的至少一侧可以设置有一个或多个隔离结构150。在一些实施例中,一第一开口h1(例如第一开口h1-a)的四周均设置有一个或多个隔离结构150。这样,该第一开口与位于其四周的四个第一开口之间均可以设置有隔离结构,可以进一步改善相邻子像素之间串扰的问题。
[0116]
进一步地,继续参见图6,在一些可能的实现方式中,显示面板10还包括连接结构ls,一连接结构ls可以被配置为将多个隔离结构150连接在一起,使得多个隔离结构150与连接结构ls形成的整体为一连续图案。示例性地,一第一电极ed1四周的一个或多个隔离结构150可以通过连接结构ls连接在一起。
[0117]
连接结构ls的材料和结构可以与隔离结构150相同,例如,可以通过同一道工序制作连接结构ls和隔离结构150。由于连接结构ls的材料和结构与隔离结构150相同,因此,连接结构ls也可以被配置为将设置在其上的一个或多个膜层断开或者增大该一个或多个膜层在连接结构ls处的电阻。基于上述,由于显示面板10还包括连接结构ls,因此,显示面板10中相邻子像素的串扰问题可以得到进一步的改善。
[0118]
参见图5和图6,在一些实施例中,像素界定层170还具有第三开口h3。一第三开口h3(例如每个第三开口h3)中可以设置有一个或多个隔离结构150,也可以说,隔离结构150可以设置在像素界定层170的第三开口h3中。这样,显示面板的厚度可以较小。
[0119]
继续参见图5,基于上述,由于隔离结构150可以被配置为使得设置在其上的一个或多个膜层断开或者增大该一个或多个膜层在隔离结构150处的电阻,因此,多个发光功能层130中的至少一个(例如,一个;又如,多个)可以在隔离结构150处断开。这样,可以改善相邻子像素串扰的问题,进而可以改善显示面板的显示效果。
[0120]
在一些实施例中,如上文所述,多个发光功能层130包括第一发光层、第二发光层和电荷产生层,电荷产生层设置在第一发光层和第二发光层之间。电荷产生层的导电性较好,易导致相邻子像素串扰的问题。因此,在显示面板中,电荷产生层可以在隔离结构处断开,这样,可以改善相邻子像素串扰的问题,进而可以改善显示面板的显示效果。在一些可
能的实现方式中,多个发光功能层130包括多个电荷产生层,这些电荷产生层均可以在隔离结构处断开,这样,可以进一步改善上述问题。
[0121]
进一步地,图7为根据一些实施例的显示面板的结构图。参见图5和图7,由于显示面板10还包括设置在多个发光功能层130远离基板sub一侧的第二电极层140,因此,第二电极层140也可以在隔离结构150处断开(如图7所示),或者,第二电极层140中位于隔离结构150处的部分导电性较差,其电阻较大(如图5所示)。如上文所述,第二电极层140可以是连续的膜层,即,各个子像素中发光器件的第二电极之间彼此连接,在显示面板10的显示过程中,可以向第二电极层140的整体写入一电信号来控制显示面板10中各个发光器件的发光。基于上述,由于第二电极层140可以在隔离结构150处断开,或者,第二电极层140中位于隔离结构150处的部分的电阻可以较大,因此,各个子像素中发光器件的第二电极之间的电连接性能较差,影响显示面板的显示效果。
[0122]
继续参见图5和图7,为了解决上述问题,本公开的实施例提供的显示面板10还包括导体层160。导体层160设置在第二电极层140远离基板sub的一侧。示例性地,沿z轴方向,基板sub、第二电极层140和导体层160依次设置。
[0123]
图8为图5中显示面板的俯视图,示出了导体层。图9为图8的显示面板中区域w1的局部放大图。
[0124]
参见图8,导体层160包括多个连接图案161。一连接图案161(例如每个连接图案161)与第二电极层140中位于隔离结构150沿第一方向的两侧的部分接触,第一方向为相邻的两个第一开口的排列方向,即与该隔离结构150对应的两个相邻第一开口的排列方向(该隔离结构150位于这两个相邻第一开口之间,具体可以参见上文的说明)。
[0125]
参见图8和图9,以第一开口h1-a和第一开口h1-b为例,连接图案161与第二电极层140中位于隔离结构150沿第一方向(例如平行于x轴方向)两侧的部分,即第一部分141和第二部分142接触。
[0126]
导体层160的材料可以与第二电极层140的材料相同,也可以不同,本公开的实施例对此不作限制,只要导体层160的材料为导体,可以导电即可。示例性地,导体层160的材料包括金属或合金,例如镁(mg)、钛(ti)、银(ag)等金属或多种金属形成的合金。
[0127]
基于上述,由于导体层160中的一连接图案161与第二电极层140中位于隔离结构150沿第一方向(例如平行于x轴方向)的两侧的部分接触,因此,通过该连接图案161,第二电极层140中位于隔离结构150沿第一方向的两侧的部分可以相互耦接。由于设置有包括多个连接图案161的导体层160,因此,相邻子像素中发光器件的第二电极之间的电连接性能可以提高,进而可以提高显示面板的显示效果。
[0128]
参见图8,一隔离结构150可以对应一个或多个连接图案161。在一些实施例中,一隔离结构150对应一个连接图案161,也可以说,相邻第一开口h1之间设置有一个连接图案161。在显示面板10的制作工艺中,可以使用带有开口(为了区别,下文中将掩膜条的开口称为第二开口)的掩膜条制作导体层160,一第二开口对应一连接图案161。由于相邻第一开口h1之间设置有一个连接图案161,因此,制作显示面板10中多个连接图案161的掩膜条的第二开口数量较少,掩膜条的结构较为简单,相应地,显示面板10的制作工艺也可以较为简单,可以提高显示面板的良率。
[0129]
参见图9,在一些实施例中,一连接图案161(例如每个连接图案161)包括第一超出
部分161a和第二超出部分161b。第一超出部分161a和第二超出部分161b位于隔离结构150的上表面150’在第一方向上的两侧。其中,参见图5和图8,隔离结构150的上表面150’为隔离结构150中远离基板sub的表面。基于上述,也可以说,第一超出部分161a和第二超出部分161b在第一方向上凸出隔离结构150的上表面150’。
[0130]
进一步地,第一超出部分161a和第二超出部分161b均与第二电极层140接触。具体地,第一超出部分161a和第二超出部分161b可以分别与第二电极层140中位于隔离结构150沿第一方向的两侧的部分接触,这样,可以实现连接图案161与第二电极层140中位于隔离结构150沿第一方向的两侧的部分接触。示例性地,第一超出部分161a可以与第二电极层140中的第一部分141接触,第二超出部分161b可以与第二电极层140中的第二部分142接触。
[0131]
又进一步地,第一超出部分161a和第二超出部分161b在第一方向上的尺寸之和大于或等于1μm,例如,第一超出部分161a和第二超出部分161b在第一方向上的尺寸之和为1μm、1.1μm、1.2μm、1.3μm、1.4μm、1.5μm、1.6μm、1.7μm、1.8μm、1.9μm、2μm。这样,可以提高连接图案161与第二电极层140中位于隔离结构150沿第一方向的两侧的部分的接触面积,可以进一步提高相邻子像素中发光器件的第二电极之间的电连接性能,进而可以提高显示面板的显示效果。
[0132]
参见图8,在一些实施例中,多个连接图案161呈交错阵列分布。如上文所述,可以使用具有第二开口的掩膜条制作导体层160,一第二开口可以对应一连接图案161。由于多个连接图案161呈交错阵列分布,因而相应地,掩膜条的多个第二开口也可以呈交错阵列分布。这样,在满足相邻第一开口h1之间设置有一个连接图案161的前提下,掩膜条中的多个第二开口可以具有规则的排布,这有利于提高掩膜条的结构稳定性,进而可以提高显示面板的结构稳定性,提高显示面板的良率。
[0133]
继续参见图8和图9,在一些实施例中,一连接图案161(例如每个连接图案161)在基板上的正投影为矩形。这样,连接图案161的面积可以较大,可以进一步提高相邻子像素中发光器件的第二电极之间的电连接性能。示例性地,参见图9,当连接图案161为矩形时,第一超出部分161a和第二超出部分161b的面积可以较大,这样,第一超出部分161a和第二超出部分161b与第二电极层140的接触面积可以较大,可以提高相邻子像素中发光器件的第二电极之间的电连接性能。
[0134]
连接图案161还可以具有其他形状。图10为根据一些实施例的显示面板中一连接图案的俯视图。图11为根据另一些实施例的显示面板中一连接图案的俯视图。
[0135]
参见图10和图11,在一些实施例中,一连接图案161(例如每个连接图案161)包括中心部分161c,以及由中心部分161c凸出的n个凸出部分161d,n个凸出部分161d沿中心部分161c的周向均匀分布,其中,n为偶数且大于或等于4,例如,n等于4、6或8。
[0136]
其中,中心部分161c在基板上的正投影可以为矩形。在一些可能的实现方式中,n个凸出部分161d的形状相同,且以中心部分161c为中心呈中心对称分布。示例性地,连接图案161的形状可以为十字形。需要说明的是,图10和图11示出的连接图案的形状仅是示意性地,连接图案还可以具有其他形状,本公开的实施例对此不作限制,只要其包括上文所述的中心部分和凸出部分即可。
[0137]
由于一连接图案161包括中心部分161c,以及由中心部分161c凸出的n个凸出部分
161d,且n个凸出部分161d沿中心部分161c的周向均匀分布,因此,在连接图案161在第一方向(例如平行于x轴方向)上的尺寸相同的前提下,相邻的两个连接图案之间的最大距离可以较大。如上文所述,多个连接图案可以通过具有第二开口的掩膜条制作,一第二开口可以对应一连接图案。基于此,参见图12,图12为制作导体层的掩膜条的局部放大图,其中(a)对应形成图10所示的连接图案的掩膜条,(b)对应形成图11所示的连接图案的掩膜条。当相邻的两个连接图案之间的最大距离较大时,在掩膜条ms中相邻两个第二开口h2之间的最大距离dmx也可以较大,使得相邻两个第二开口h2之间用于连接这两个第二开口的连接实材lo的尺寸可以较大。这样,可以提高掩膜条ms的结构稳定性,使得其在制作导体层的过程中不易发生变形,有利于提高显示面板的良率。
[0138]
此外,继续参见图10、图11和图12,由于n个凸出部分161d沿中心部分161c的周向均匀分布,因此,形成具有此种形状的连接图案的掩膜条ms的第二开口h2的形状较为规则,可以使得掩膜条ms在制作导体层的工艺(例如蒸镀工艺或溅射工艺)中的受力较为均匀,有利于提高掩膜条ms的结构稳定性,进而提高显示面板的良率。
[0139]
需要说明的是,相比于图8和图9中的连接图案,图10和图11中的连接图案的形状不同,其他特征均可以与图8和图9中的连接图案相同。例如,图10和图11中示出的连接图案在显示面板中的分布可以与图8所示的相同,即,也可以呈交错阵列分布。又例如,参见图13,图13为根据一些实施例的显示面板的局部放大图,其中(a)对应图10中示出的连接图案,(b)对应图11中示出的连接图案。具有上述形状的连接图案161也可以包括第一超出部分161a和第二超出部分161b,具体说明可以参照上文的相关说明,在此不再赘述。
[0140]
继续参见图8,在一些实施例中,相邻两个连接图案161之间的最小距离dmi大于或等于10μm,例如为10μm、11μm、12μm、13μm、14μm、15μm。这样,在制作导体层的掩膜条中,相邻两个第二开口之间的最小距离可以大于或等于10μm。这样,相邻两个第二开口之间用于连接这两个第二开口的连接实材的尺寸可以较大,例如大于或等于10μm,可以提高掩膜条的结构稳定性,使得其在制作导体层的过程中不易发生变形,有利于提高显示面板的良率。
[0141]
图14为图5的显示面板中隔离结构的结构图。参见图5和图14,在一些实施例中,隔离结构150包括沿远离基板sub的方向依次层叠设置的第一图案151、第二图案152和第三图案153。
[0142]
其中,第二图案152在基板sub上的正投影位于第三图案153在基板sub上的正投影的内部,也可以说,在垂直于显示面板10厚度方向的方向(例如平行于x-y平面)上,第三图案153凸出第二图案152。这样,在隔离结构150上制作发光功能层时(例如通过蒸镀工艺制作发光功能层时),该发光功能层更易于在隔离结构150处断开。
[0143]
进一步地,第二图案152在基板sub上的正投影位于第一图案151在基板sub上的正投影的内部,也可以说,在垂直于显示面板10厚度方向的方向上,第一图案151凸出第二图案152。也可以说,在垂直于显示面板10厚度方向的方向上,第一图案151的尺寸大于第二图案152的尺寸。由于第一图案151的尺寸较大,因此,相比于第二图案152,第一图案151与位于其下的膜层的结合性较好,可以提高隔离结构150的结构稳定性,进而提高显示面板10的结构稳定性。
[0144]
在一些可能的实现方式中,第一图案151的材料为氧化物,例如氧化硅。第二图案152的材料为氮化物,例如氮化硅,位于第一图案151靠近基板sub一侧且与第一图案151接
触的膜层为平坦化层pn。其中,平坦化层pn可以被配置为形成较平坦的表面,使得设置在平坦化层pn上的膜层较为平坦。相比于氮化硅,氧化硅与平坦化层pn的结合性较好。因此,当隔离结构150包括材料为氧化硅的第一图案151时,隔离结构150可以具有更好的结构稳定性,进而提高显示面板的结构稳定性。
[0145]
图15为制作图5中的显示面板的工艺流程图。参见图14和图15,在一些实施例中,可以在平坦化层pn远离基板sub的一侧制作包括第一图案151、第二图案152以及第三图案153的隔离结构150。示例性地,可以形成三个层叠设置的图案层,这三个图案层在第一方向(例如平行于x轴方向)上的尺寸大致相同。可以通过刻蚀工艺(例如干法刻蚀工艺)刻蚀这三个图案层,以形成隔离结构150。具体地,可以选择合适的材料和刻蚀剂,使得第二图案152的刻蚀速率大于第一图案151和第三图案153的刻蚀速率,例如,第一图案151和第三图案153的材料为氧化硅,第二图案152的材料为氮化硅,可以选择合适的刻蚀剂,使得在刻蚀工艺中,氮化硅的刻蚀速率大于氧化硅的刻蚀速率,这样,通过一道刻蚀工艺,即可形成隔离结构150,可以简化显示面板的制作工艺,提高显示面板的良率。在一些实施例中,还可以在平坦化层pn远离基板sub的一侧形成第一电极层120、像素界定层170、多个发光功能层130以及第二电极层140,以形成显示面板10。
[0146]
图16为根据一些实施例的显示面板的结构图,示出了另一种隔离结构。图17为图16的显示面板中隔离结构的结构图。需要说明的是,图16中仅示出了显示面板中的一些膜层,例如,示出了基板、第一电极层、发光功能层中的一个以及第二电极层,而省略了其他膜层,例如省略了一些发光功能层以及设置在基板上的像素驱动电路。
[0147]
参见图16和图17,在一些实施例中,隔离结构150包括沿远离基板sub的方向依次分布的下表面150”和上表面150’。并且,下表面150”在基板sub上的正投影位于上表面150’在基板sub上的正投影的内部,也可以说,在第一方向(例如平行于x轴方向)上,上表面150’凸出下表面150”。这样,在隔离结构150上制作发光功能层130时(例如通过蒸镀工艺制作发光功能层130时),该发光功能层130更易于在隔离结构150处断开。
[0148]
图18为图16中的显示面板的俯视图,示出了隔离结构在显示面板中的相对位置。参见图18,连接结构ls还可以将分别位于两个第一开口h1的同一侧的两个隔离结构150连接在一起。以第一开口h1-a和第一开口h1-d为例,连接结构ls可以将位于第一开口h1-a沿x轴负方向一侧的隔离结构150以及位于第一开口h1-d沿x轴负方向一侧的隔离结构150连接在一起。如上文所述,连接结构ls的材料和结构可以与隔离结构150相同,因此,连接结构ls也可以被配置为将设置在其上的一个或多个膜层断开或者增大该一个或多个膜层在连接结构ls处的电阻。基于上述,由于显示面板10还包括连接结构ls,因此,显示面板10中相邻子像素的串扰问题可以得到进一步的改善。
[0149]
本公开的一些实施例还提供了一种掩膜条。该掩膜条被配置为制作上述任一实施例提供的显示面板中的导体层。
[0150]
图19为根据一些实施例的掩膜条的结构图。参见图19,掩膜条ms具有至少一个(例如,一个;又如,多个)图案区pa。一图案区pa(例如每个图案区pa)可以对应一显示面板。掩膜条ms还可以具有位于相邻图案区pa之间的遮挡区ba。此外,掩膜条ms还具有焊接区wa以及夹持区ha。可以将掩膜条ms位于夹持区ha中的部分通过夹具(例如机械夹手,gripper)夹住,以便将掩膜条ms的焊接区wa和掩膜板的框架上的焊接区对位,以实现将掩膜条焊接在
掩膜板的框架上(掩膜板以及框架将在下文说明)。
[0151]
继续参见图19,掩膜条ms可以为条状。在一些实施例中,掩膜条ms的宽度k1为35nm~400nm,例如为35nm、40nm、45nm、50nm、100nm、150nm、200nm、250nm、300nm、350nm、400nm。掩膜条ms的长度k2为800~1200nm,例如800nm、850nm、900nm、950nm、1000nm、1100nm、1200nm。
[0152]
图20、图21以及图22为掩膜条的局部放大图,示出了一图案区的结构。图23为图21所示的掩膜条的第二开口的俯视图,图24为图22所示的掩膜条的第二开口的俯视图。需要说明的是,图20、图21以及图22所示的位于图案区中第二开口的数量以及排列方式仅是示意性地,可以根据实际需要设置图案区中的第二开口数量以及排列方式,本公开的实施例对此不作限制。
[0153]
参见图19、图20、图21和图22,掩膜条ms还具有设置在一图案区pa中的多个第二开口h2,一第二开口h2(例如每个第二开口h2)被配置为制作导体层中的一连接图案。示例性地,在使用掩膜条制作导体层的工艺中,导体层的材料可以通过一第二开口而淀积在基板的相应位置,进而形成一连接图案。
[0154]
基于此,可以理解地,掩膜条ms中一图案区pa中的多个第二开口h2的形状以及排列方式可以参见上文中对显示面板中多个连接图案的形状以及排列方式的说明。
[0155]
具体地,参见图20,在一些实施例中,一第二开口h2(例如每个第二开口h2)的边沿围成的图形为矩形,这样,通过该第二开口h2,可以形成上文所述的矩形连接图案。
[0156]
在另一些实施例中,参见图23和图24,一第二开口h2(例如每个第二开口h2)包括中心子开口hc,以及由中心子开口凸出的n个凸出子开口hd,n个凸出子开口hd沿中心子开口hc的周向均匀分布,n为偶数且n大于或等于4,例如,n等于4、6或8。
[0157]
其中,中心子开口hc的正投影可以为矩形。在一些可能的实现方式中,n个凸出子开口hd的形状相同,且以中心子开口hc为中心呈中心对称分布。示例性地,第二开口h2的边沿围成的图形可以为十字形。需要说明的是,图23和图24示出的第二开口的形状仅是示意性地,第二开口还可以具有其他形状,本公开的实施例对此不作限制,只要其包括上文所述的中心部分和凸出部分即可。
[0158]
基于上述,由于一第二开口h2包括中心子开口hc,以及由中心子开口凸出的n个凸出子开口hd,n个凸出子开口hd沿中心子开口hc的周向均匀分布,因此,参见图21和图22,在掩膜条中,相邻两个第二开口h2之间的最大距离dmx可以较大,使得相邻两个第二开口h2之间用于连接这两个第二开口的连接实材lo的尺寸可以较大。这样,可以提高掩膜条的结构稳定性,使得掩膜条在制作导体层的过程中不易发生变形。
[0159]
图25和图26为第二开口的剖视图。参见图25和图26,在一些实施例中,一第二开口h2(例如每个第二开口h2)具有沿第二方向分布且相互连通的第一子开口ha和第二子开口hb,其中,第二方向为掩膜条的厚度方向,例如平行于z轴方向。第一子开口ha的深度i1大于或等于第二子开口hb的深度i2。
[0160]
具体地,可以采用刻蚀工艺制作第一子开口ha和第二子开口hb。受到刻蚀工艺的限制,第一子开口ha或第二子开口hb的深度越大,该子开口的轮廓角也越大。参见图26,以第一子开口ha为例,第一子开口ha的轮廓角α可以为,在平行于掩膜条厚度方向的平面(例如平行于x-z平面,x-z平面为x轴方向和z轴方向确定的平面,x轴方向垂直于z轴方向)上,
第一子开口ha的侧壁ha’的端点a和b之间的连线与第一子开口ha的远离第二子开口hb的边沿e1所在的平面之间的夹角。在一些实施例中,第一子开口ha的轮廓角α为30
°
~70
°
。这样,第一子开口ha的制作工艺可以较为简单。
[0161]
继续参见图25,在使用掩膜条制作导体层的工艺中,基板sub可以位于第二子开口hb远离第一子开口ha的一侧,即,材料可以依次通过第一子开口ha和第二子开口hb(例如沿z轴正方向)而淀积在基板上,进而形成连接图案。基于上述,第二子开口hb更靠近基板sub,且第二子开口hb的深度可以较小,相应地,第二子开口hb的轮廓角可以较小。相比于轮廓角较大的第一子开口ha更靠近基板sub,轮廓角较小的第二子开口hb更靠近基板可以提高工艺精度,可以提高制作出的图案的准确性。
[0162]
参见图20、图21和图22,在一些实施例中,对于相邻开两个第二开口h2之间的连接实材lo的正投影而言,该正投影的最小尺寸d1大于或等于10μm。这样,相邻两个第二开口h2之间用于连接这两个第二开口的连接实材lo的尺寸可以较大,可以提高掩膜条的结构稳定性,使得掩膜条在制作导体层的过程中不易发生变形。其中,相邻两个第二开口h2之间的连接实材lo的正投影可以是该连接实材lo在掩膜条沿掩膜条厚度方向分布的一表面上的正投影,该表面例如平行于x-y平面,x-y平面为x轴方向和y轴方向确定的平面,x轴方向和y轴方向垂直于z轴方向,且x轴方向和y轴方向交叉。此外,需要说明的是,图20、图21和图22中示出的相邻开两个第二开口h2之间的连接实材lo的最小尺寸d1仅为示意性地,可以理解地,相邻开两个第二开口h2之间的连接实材lo的最小尺寸也可以是相邻两个第二开口之间的连接实材的其他位置处的尺寸。
[0163]
具体地,图27为相邻两个开口的剖视图。参见图27,考虑到开口侧壁的形状,相邻两个第二开口之间连接实材lo的正投影的最小尺寸d1可以为这两个第二开口的第一子开口ha靠近第二子开口hb的边沿e2之间的最小尺寸。
[0164]
本公开的一些实施例还提供了一种掩膜板。图28为掩膜板的结构图。参见图28,掩膜板30包括框架310,以及固定安装在框架310上的一个或多个掩膜条ms。该掩膜条ms可以为上述任一实施例提供的掩膜条。示例性地,可以将掩膜条ms的焊接区wa和框架310上的焊接区311对位,进而将掩膜条ms焊接在框架310上,以实现将掩膜条ms固定安装在框架310上。
[0165]
本公开的一些实施例还提供了一种显示面板的制作方法。通过该方法,可以制作上述任一实施例提供的显示面板。图29为显示面板的制作方法的流程图。参见图29,显示面板的制作方法包括以下步骤:
[0166]
s1、在基板上形成第一电极层。
[0167]
其中,第一电极层包括多个第一电极。第一电极的材料和结构可以参见上文,在此不再赘述。
[0168]
s2、在第一电极层远离基板的一侧形成像素界定层。
[0169]
其中,像素界定层具有多个第一开口,一第一开口露出一第一电极的至少一部分(例如,部分;又如,全部)。像素界定层的具体结构可以参照上文的相关说明,在此不再赘述。
[0170]
s3、在基板上形成隔离结构。
[0171]
其中,隔离结构设置在相邻两个第一开口之间。隔离结构的材料和结构可以参见
上文,在此不再赘述。此外,隔离结构的制作方法也可以参见上文的相关说明,在此不再赘述。
[0172]
在一些实施例中,可以先执行步骤s1再执行步骤s3,即,可以在带有第一电极层的基板上制作隔离结构。在另一些实施例中,可以先执行步骤s3,再执行步骤s1,即,可以在带有隔离结构的基板上制作第一电极层。
[0173]
s4、在带有隔离结构的基板上形成多个发光功能层。
[0174]
其中,多个发光功能层设置在第一电极层远离基板的一侧。至少一个发光功能层在隔离结构处断开。
[0175]
多个发光功能层的具体材料和结构可以参见上文的说明,在此不再赘述。
[0176]
此外,参见上文的说明,由于至少一个发光功能层在隔离结构处断开,因此,显示面板中子像素间串扰的问题可以得到改善。
[0177]
s5、在多个发光功能层远离基板的一侧形成第二电极层。
[0178]
其中,第二电极层的材料和结构可以参见上文的说明,在此不再赘述。具体地,第二电极层可以为一连续膜层。在一些实施例中,第二电极层可以在隔离结构处断开。在另一些实施例中,第二电极层中位于隔离结构处的部分的电阻可以较大。
[0179]
s6、使用上述任一实施例提供的掩膜板,在第二电极层远离基板的一侧形成导体层。
[0180]
其中,导体层的材料和结构可以参照上文,在此不再赘述。具体地,导体层包括多个连接图案,一连接图案与第二电极层中位于隔离结构沿第一方向的两侧的部分接触,第一方向为相邻两个第一开口的排列方向。这样,参见上文的说明,连接图案可以将第二电极层位于隔离结构两侧的两部分连接起来,可以提高相邻子像素的发光器件中第二电极之间的电连接性能,进而改善显示面板的显示效果。
[0181]
最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。

技术特征:
1.一种显示面板,其特征在于,包括:基板;第一电极层,设置在所述基板上,所述第一电极层包括多个第一电极;像素界定层,设置在所述第一电极层远离所述基板的一侧,所述像素界定层具有多个第一开口,一第一开口露出一第一电极的至少一部分;隔离结构,设置在所述基板上,且设置在相邻的两个第一开口之间;多个发光功能层,设置在所述第一电极层远离所述基板的一侧,至少一个发光功能层在所述隔离结构处断开;第二电极层,设置在所述多个发光功能层远离所述基板的一侧;导体层,设置在所述第二电极层远离所述基板的一侧,所述导体层包括多个连接图案;其中,一连接图案与所述第二电极层中位于所述隔离结构沿第一方向的两侧的部分接触,所述第一方向为所述相邻的两个第一开口的排列方向。2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述连接图案包括第一超出部分和第二超出部分,所述第一超出部分和所述第二超出部分位于所述隔离结构的上表面在所述第一方向上的两侧,且均与所述第二电极层接触;所述隔离结构的上表面为所述隔离结构中远离所述基板的表面;所述第一超出部分和所述第二超出部分在所述第一方向上的尺寸之和大于或等于1μm。3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述多个连接图案呈交错阵列分布。4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述连接图案在所述基板上的正投影为矩形;或者,所述连接图案包括中心部分,以及由所述中心部分凸出的n个凸出部分,所述n个凸出部分沿所述中心部分的周向均匀分布,n为偶数且大于或等于4。5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,相邻两个连接图案之间的最小距离大于或等于10μm。6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述隔离结构包括沿远离所述基板的方向依次层叠设置的第一图案,第二图案和第三图案,所述第二图案在所述基板上的正投影位于所述第一图案在所述基板上的正投影的内部,所述第二图案在所述基板上的正投影位于所述第三图案在所述基板上的正投影的内部。7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述隔离结构包括沿远离所述基板的方向依次分布的下表面和上表面,所述下表面在所述基板上的正投影位于所述上表面在所述基板上的正投影的内部。8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述多个发光功能层包括第一发光层,第二发光层以及电荷产生层,所述电荷产生层设置在所述第一发光层和所述第二发光层之间,所述电荷产生层在所述隔离结构处断开。9.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二电极层在所述隔离结构处断开。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1~9任一项所述的显示面板。11.一种掩膜条,其特征在于,被配置为制作权利要求1~9任一项所述的显示面板中的导体层;所述掩膜条具有:图案区;多个第二开口,设置在所述图案区中,一第二开口被配置为制作所述导体层中的一连接图案。12.根据权利要求11所述的掩膜条,其特征在于,所述第二开口的边沿围成的图形为矩形;或者,所述第二开口包括中心子开口,以及由所述中心子开口凸出的n个凸出子开口,所述n个凸出子开口沿所述中心子开口的周向均匀分布,n为偶数且大于或等于4。13.根据权利要求11所述的掩膜条,其特征在于,所述第二开口具有沿第二方向分布且相互连通的第一子开口和第二子开口,所述第一子开口的深度大于或等于所述第二子开口的深度,所述第二方向为所述掩膜条的厚度方向;所述第一子开口的轮廓角为30
°
~70
°
。14.一种掩膜板,其特征在于,包括:框架,以及固定安装在所述框架上的掩膜条,所述掩膜条为权利要求11~13任一项所述的掩膜条。15.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:在基板上形成第一电极层,所述第一电极层包括多个第一电极;在所述第一电极层远离所述基板的一侧形成像素界定层,所述像素界定层具有多个第一开口,一第一开口露出一第一电极的至少一部分;在所述基板上形成隔离结构,所述隔离结构设置在相邻的两个第一开口之间;在带有所述隔离结构的基板上形成多个发光功能层,所述多个发光功能层设置在所述第一电极层远离所述基板的一侧,至少一个发光功能层在所述隔离结构处断开;在所述多个发光功能层远离所述基板的一侧形成第二电极层;使用权利要求14所述的掩膜板,在所述第二电极层远离所述基板的一侧形成导体层,所述导体层包括多个连接图案,一连接图案与所述第二电极层中位于所述隔离结构沿第一方向的两侧的部分接触,所述第一方向为所述相邻的两个第一开口的排列方向。

技术总结
本发明实施例提供了一种显示面板及制作方法、显示装置、掩膜条和掩膜板,涉及显示技术领域,用以改善显示面板中相邻发光器件的电极之间的电连接性能较差的问题。显示面板包括基板、第一电极层、像素界定层、隔离结构、多个发光功能层、第二电极层以及导体层。其中,第一电极层包括多个第一电极。像素界定层设置在第一电极层远离基板的一侧,像素界定层具有多个第一开口,一第一开口露出一第一电极的至少一部分。隔离结构设置在相邻的两个第一开口之间。多个发光功能层中的至少一个在隔离结构处断开。导体层包括多个连接图案,一连接图案与第二电极层中位于隔离结构沿第一方向的两侧的部分接触,第一方向为相邻的两个第一开口的排列方向。列方向。列方向。


技术研发人员:蒋志亮 周瑞 胡明 董向丹
受保护的技术使用者:成都京东方光电科技有限公司
技术研发日:2021.11.30
技术公布日:2022/3/8

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