一种陶瓷可调节均匀上釉装置的制作方法

1.本实用新型涉及一种陶瓷可调节均匀上釉装置，属于陶瓷上釉技术领域。


背景技术：

2.釉浆调好后，必须把它批附在陶瓷的表面，这道过程叫做上秞，釉有很多种以石英、长石、硼砂、黏土等为原料制成的物质，涂在瓷器、陶器的表面，烧制成有玻璃光泽可分为结晶釉裂纹釉等，在烧制好的毛坯上涂覆上一层玻璃质的釉层，主要起到保护和装饰作用，在对陶瓷进行上釉时，要能够加强陶瓷转动时的稳定性，使上釉更加的均匀，并且要能够保证上釉箱内的洁净度，为此，提供一种陶瓷可调节均匀上釉装置。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于提供一种陶瓷可调节均匀上釉装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
4.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：
5.一种陶瓷可调节均匀上釉装置，包括上釉箱，所述上釉箱右侧设置有喷釉机构，所述上釉箱底部中间设置有电机箱，所述电机箱内设置有电机，所述电机输出轴顶端贯穿上釉箱设置有放置机构，所述上釉箱内腔顶面设置有清理机构，所述上釉箱前侧对称铰接有箱门。
6.进一步的，喷釉机构包括储釉箱、导管、液压泵与喷头，所述储釉箱设置于上釉箱右侧底部，所述喷头设置于上釉箱内腔右壁，所述导管连接于喷头与储釉箱之间，且所述液压泵设置于导管上，所述液压泵设置于储釉箱顶部中间。
7.进一步的，放置机构包括放置板、限制环、与稳定组件，所述放置板设置于电机输出轴顶端，所述限制环设置于放置板顶板，稳定组件等距设置于放置板底部边缘。
8.进一步的，稳定组件包括连接杆、连接块、凹槽、环形槽与滚珠，所述连接杆等距设置于放置板底部边缘，所述连接块设置于连接杆底部，所述凹槽开设于连接块底部中间，所述环形槽开设于上釉箱内腔底面，所述滚珠设置于连接块底部，且所述滚珠顶端处于凹槽内，所述滚珠底端处于环形槽内。
9.进一步的，清理机构包括进水管、导液板、腔室与出液口，所述导液板设置于上釉箱内腔顶面，所述腔室开设于导液板内，所述出液口阵列开设于导液板底部，且所述出液口与腔室相连通，所述进水管设置于上釉箱顶部中间，且所述进水管底端与腔室相连通。
10.进一步的，所述导液板底部设置有连接框板，所述连接框板底部设置有导向斜板。
11.本实用新型的有益效果是：
12.1、通过稳定组件，能够使放置板更加的稳定，从而在陶瓷转动时会更加的稳定，使陶瓷的上釉会更均匀，并且通过清理机构，能够更好的对上釉箱内腔进行清理，从而保证上釉箱内的洁净度。
13.2、通过设置限制环，能够对放置板顶部的陶瓷进行限制，使陶瓷不易脱离放置板，
通过设置凹槽、环形槽以及滚珠，在放置板进行转动时，滚珠进行滚动，从而在不影响放置板转动的同时，提高放置板的稳定性，通过设置导向斜板，能够更好的将清理用水导至上釉箱内壁，从而更好的对上釉箱内壁进行清理。
附图说明
14.附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的具体实施方式一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。
15.图1是本实用新型一种陶瓷可调节均匀上釉装置的整体结构示意图；
16.图2是本实用新型一种陶瓷可调节均匀上釉装置的内部结构示意图；
17.图3是本实用新型一种陶瓷可调节均匀上釉装置的连接框板示意图；
18.图4是本实用新型一种陶瓷可调节均匀上釉装置的放置板连接示意图；
19.图中标号：1、上釉箱；2、电机箱；3、电机；4、箱门；5、储釉箱；6、导管；7、液压泵；8、喷头；9、放置板；10、限制环；11、连接杆；12、连接块；13、凹槽；14、环形槽；15、滚珠；16、进水管；17、导液板；18、腔室；19、出液口；20、连接框板；21、导向斜板。
具体实施方式
20.以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
21.请参阅图1-图4，本实用新型提供一种技术方案：一种陶瓷可调节均匀上釉装置，包括上釉箱1，所述上釉箱1右侧设置有喷釉机构，所述上釉箱1底部中间设置有电机箱2，所述电机箱2内设置有电机3，所述电机3输出轴顶端贯穿上釉箱1设置有放置机构，所述上釉箱1内腔顶面设置有清理机构，所述上釉箱1前侧对称铰接有箱门4。
22.具体的，如图1和图2所示，喷釉机构包括储釉箱5、导管6、液压泵7与喷头8，所述储釉箱5设置于上釉箱1右侧底部，所述喷头8设置于上釉箱1内腔右壁，所述导管6连接于喷头8与储釉箱5之间，且所述液压泵7设置于导管6上，所述液压泵7设置于储釉箱5顶部中间，液压泵7通过导管6将储釉箱5内的釉抽出，并通过喷头8喷至陶瓷上。
23.具体的，如图2和图4所示，放置机构包括放置板9、限制环10、与稳定组件，所述放置板9设置于电机3输出轴顶端，所述限制环10设置于放置板9顶板，稳定组件等距设置于放置板9底部边缘，将陶瓷放置在放置板9顶部，使放置板9带动陶瓷进行转动，稳定组件包括连接杆11、连接块12、凹槽13、环形槽14与滚珠15，所述连接杆11等距设置于放置板9底部边缘，所述连接块12设置于连接杆11底部，所述凹槽13开设于连接块12底部中间，所述环形槽14开设于上釉箱1内腔底面，所述滚珠15设置于连接块12底部，且所述滚珠15顶端处于凹槽13内，所述滚珠15底端处于环形槽14内，使放置板9更加的稳定，从而在陶瓷转动时会更加的稳定，使陶瓷的上釉会更均匀。
24.具体的，如图1-图3所示，清理机构包括进水管16、导液板17、腔室18与出液口19，所述导液板17设置于上釉箱1内腔顶面，所述腔室18开设于导液板17内，所述出液口19阵列开设于导液板17底部，且所述出液口19与腔室18相连通，所述进水管16设置于上釉箱1顶部中间，且所述进水管16底端与腔室18相连通，所述导液板17底部设置有连接框板20，所述连接框板20底部设置有导向斜板21，对上釉箱1内腔以及内壁进行清理，从而保证上釉箱1内
的洁净度。
25.本实用新型工作原理：打开箱门4，将陶瓷放置在放置板9顶部，上釉时，通过外接电源为电机3以及液压泵7供电，开启电机3以及液压泵7，电机3的输出轴带动放置板9顶部的陶瓷进行转动，调节陶瓷面对喷头8的一侧，液压泵7通过导管6将储釉箱5内的釉抽出，并通过喷头8喷至陶瓷上，在上釉完成后，通过进水管16将清理用水注进腔室18内，并通过出液口19使水喷至上釉箱1内，通过连接框板20以及导向斜板21，将一部分水导至上釉箱1内壁，从而更好的对上釉箱1进行清理。
26.以上为本实用新型较佳的实施方式，本实用新型所属领域的技术人员还能够对上述实施方式进行变更和修改，因此，本实用新型并不局限于上述的具体实施方式，凡是本领域技术人员在本实用新型的基础上所作的任何显而易见的改进、替换或变型均属于本实用新型的保护范围。


技术特征：
1.一种陶瓷可调节均匀上釉装置，包括上釉箱(1)，其特征在于：所述上釉箱(1)右侧设置有喷釉机构，所述上釉箱(1)底部中间设置有电机箱(2)，所述电机箱(2)内设置有电机(3)，所述电机(3)输出轴顶端贯穿上釉箱(1)设置有放置机构，所述上釉箱(1)内腔顶面设置有清理机构，所述上釉箱(1)前侧对称铰接有箱门(4)。2.根据权利要求1所述的一种陶瓷可调节均匀上釉装置，其特征在于：喷釉机构包括储釉箱(5)、导管(6)、液压泵(7)与喷头(8)，所述储釉箱(5)设置于上釉箱(1)右侧底部，所述喷头(8)设置于上釉箱(1)内腔右壁，所述导管(6)连接于喷头(8)与储釉箱(5)之间，且所述液压泵(7)设置于导管(6)上，所述液压泵(7)设置于储釉箱(5)顶部中间。3.根据权利要求2所述的一种陶瓷可调节均匀上釉装置，其特征在于：放置机构包括放置板(9)、限制环(10)、与稳定组件，所述放置板(9)设置于电机(3)输出轴顶端，所述限制环(10)设置于放置板(9)顶板，稳定组件等距设置于放置板(9)底部边缘。4.根据权利要求3所述的一种陶瓷可调节均匀上釉装置，其特征在于：稳定组件包括连接杆(11)、连接块(12)、凹槽(13)、环形槽(14)与滚珠(15)，所述连接杆(11)等距设置于放置板(9)底部边缘，所述连接块(12)设置于连接杆(11)底部，所述凹槽(13)开设于连接块(12)底部中间，所述环形槽(14)开设于上釉箱(1)内腔底面，所述滚珠(15)设置于连接块(12)底部，且所述滚珠(15)顶端处于凹槽(13)内，所述滚珠(15)底端处于环形槽(14)内。5.根据权利要求4所述的一种陶瓷可调节均匀上釉装置，其特征在于：清理机构包括进水管(16)、导液板(17)、腔室(18)与出液口(19)，所述导液板(17)设置于上釉箱(1)内腔顶面，所述腔室(18)开设于导液板(17)内，所述出液口(19)阵列开设于导液板(17)底部，且所述出液口(19)与腔室(18)相连通，所述进水管(16)设置于上釉箱(1)顶部中间，且所述进水管(16)底端与腔室(18)相连通。6.根据权利要求5所述的一种陶瓷可调节均匀上釉装置，其特征在于：所述导液板(17)底部设置有连接框板(20)，所述连接框板(20)底部设置有导向斜板(21)。

技术总结
本实用新型公开了一种陶瓷可调节均匀上釉装置，包括上釉箱，所述上釉箱右侧设置有喷釉机构，所述上釉箱底部中间设置有电机箱，所述电机箱内设置有电机，所述电机输出轴顶端贯穿上釉箱设置有放置机构，所述上釉箱内腔顶面设置有清理机构，所述上釉箱前侧对称铰接有箱门，喷釉机构包括储釉箱、导管、液压泵与喷头，所述储釉箱设置于上釉箱右侧底部，所述喷头设置于上釉箱内腔右壁，所述导管连接于喷头与储釉箱之间，本实用新型结构简单，设计合理，通过稳定组件，能够使放置板更加的稳定，从而在陶瓷转动时会更加的稳定，使陶瓷的上釉会更均匀，并且通过清理机构，能够更好的对上釉箱内腔进行清理，从而保证上釉箱内的洁净度。从而保证上釉箱内的洁净度。从而保证上釉箱内的洁净度。


技术研发人员：李冬娇 罗细华 屈丽思
受保护的技术使用者：景德镇恩达陶瓷有限公司
技术研发日：2021.10.20
技术公布日：2022/3/8